Que peut-on attendre de la technique de pulvérisation cathodique à l'avenir ?

La technique de pulvérisation a vu le jour en 1842 lorsque Grove a étudié la corrosion des cathodes dans le laboratoire des tubes électroniques et a constaté que les matériaux des cathodes avaient migré vers la paroi des tubes à vide. Cependant, le mécanisme physique de la pulvérisation n'était pas très clair en raison du retard de l'équipement expérimental de l'époque. La technologie de pulvérisation magnétron est apparue dans les années 1970, et les équipements de pulvérisation commerciaux ont été utilisés pour la petite production. La technologie de pulvérisation actuelle est devenue une technologie relativement mature et est largement utilisée dans les secteurs des semi-conducteurs, de la photovoltaïque, de l'affichage et d'autres industries.

Industrie des semi-conducteurs

Les cibles de pulvérisation de haute pureté augmentent avec le développement de l'industrie des semi-conducteurs, et l'industrie des circuits intégrés est devenue l'un des principaux domaines d'application des cibles de pulvérisation de haute pureté.

Avec le développement rapide des technologies de l'information, le degré d'intégration du circuit intégré doit être amélioré et la taille de l'unité du circuit est réduite. L'intérieur de chaque appareil est constitué d'un substrat, d'une couche d'isolation, d'une couche de support, d'une couche de conducteur et d'une couche de protection, la couche de support, la couche de conducteur et même la couche de protection reposant toutes sur la technologie de revêtement par pulvérisation cathodique, de sorte que la cible de pulvérisation cathodique est l'un des matériaux de base pour la préparation des circuits intégrés.

Industrie des écrans plats

Le revêtement est le lien fondamental de l'industrie moderne des écrans plats (FPD). Presque tous les types d'écrans plats utilisent un grand nombre de matériaux revêtus pour former divers films fonctionnels, afin de garantir l'uniformité d'une grande surface de couches de film tout en améliorant la productivité et en réduisant les coûts. Les matériaux de revêtement PVD utilisés sont principalement des matériaux cibles de pulvérisation. De nombreuses propriétés des écrans plats, telles que la résolution et la transmittance, sont étroitement liées aux performances du film de pulvérisation.

Les matériaux de revêtement PVD sont principalement utilisés dans la production de panneaux d'affichage et d'écrans tactiles. Dans le processus de production d'écrans plats, le substrat de verre est transformé en verre ITO après plusieurs pulvérisations, et le verre ITO est revêtu, traité et assemblé pour la production de panneaux LCD, de panneaux PDP et de panneaux OLED. Pour la production de l'écran tactile, le verre ITO doit être traité, revêtu pour former une électrode, puis assemblé et traité avec l'écran de protection et d'autres composants. En outre, le revêtement de film correspondant peut être ajouté dans le processus de placage pour réaliser la fonction d'antireflet et d'antiréflexion des produits d'affichage à écran plat.

Industrie de l'énergie solaire

Les cibles de pulvérisation couramment utilisées dans la préparation des cellules solaires comprennent les cibles d'aluminium, de cuivre, de molybdène, de chrome, d' ITO et d'AZO, etc. et leur pureté est généralement supérieure à 99,99 %. En général, les cibles d'aluminium et de cuivre sont utilisées pour la couche conductrice, les cibles de molybdène et de chrome pour la couche de blocage, les cibles d'ITO et d'AZO pour la couche conductrice transparente.

Ces dernières années, la capacité installée cumulée de l'énergie solaire photovoltaïque dans le monde a connu une croissance rapide. Au cours des prochaines années, l'industrie mondiale des cellules solaires sera encore en phase de croissance, le marché se mondialisera davantage et la portée et la proportion des marchés émergents s'étendront.