ITO0491 Cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain (ITO)

Cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain (ITO) Description

L'oxyde d'indium et d' étain (ITO) est une solution solide d'oxyde d'indium (In2O3) et d'oxyde d'étain (SnO2), généralement 90% In2O3, 10% SnO2 en poids. L'oxyde d'indium et d'étain (ITO) est l'un des oxydes conducteurs transparents les plus utilisés en raison de sa conductivité électrique et de sa transparence optique. Les films minces d'oxyde d'indium-étain sont le plus souvent déposés sur des surfaces par dépôt physique en phase vapeur (PVD).

L'ITO est souvent utilisé pour fabriquer des revêtements conducteurs transparents pour les écrans tels que les écrans à cristaux liquides, les écrans plats, les écrans plasma, les panneaux tactiles et les applications d'encre électronique. Les films minces d'ITO sont utilisés dans les diodes électroluminescentes organiques, les cellules solaires, les revêtements antistatiques et les blindages EMI.

Par ailleurs, l'ITO est également utilisé pour divers revêtements optiques, notamment les revêtements réfléchissant les infrarouges (miroirs chauds) pour l'automobile et les verres de lampes à vapeur de sodium.

Les jauges de contrainte à couche mince d'ITO peuvent fonctionner à des températures allant jusqu'à 1400 °C et peuvent être utilisées dans des environnements difficiles, par exemple dans les turbines à gaz, les moteurs à réaction et les moteurs de fusée.

En tant que conducteur transparent pour les écrans LCD, le principal avantage de l'ITO par rapport à d'autres matériaux (l'AZO, par exemple) est qu'il peut être gravé avec précision en motifs fins.

Spécification des cibles de pulvérisation de l'oxyde d'indium et d'étain (ITO)

*Lesinformations ci-dessus sont basées sur des données théoriques. Pour des exigences spécifiques et des demandes détaillées, veuillez nous contacter.

Cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain (ITO) Application

Revêtements conducteurs transparents pour panneaux tactiles et écrans

Électrodes de cellules solaires

Films antistatiques et de protection contre les interférences électromagnétiques

Revêtements optiques nécessitant transparence et conductivité

Cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain (ITO) Emballage

Nos produits sont emballés dans des cartons personnalisés de différentes tailles en fonction des dimensions du matériau. Les petits articles sont solidement emballés dans des boîtes en PP, tandis que les articles plus volumineux sont placés dans des caisses en bois personnalisées. Nous veillons à respecter scrupuleusement la personnalisation de l'emballage et à utiliser des matériaux de rembourrage appropriés afin d'assurer une protection optimale pendant le transport.

Emballage : Carton, caisse en bois ou sur mesure.

Cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain (ITO) FAQs

1. Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ITO ?

Une cible de pulvérisation ITO est un matériau céramique de haute pureté composé d'oxyde d'indium et d'oxyde d'étain utilisé comme source dans les processus de pulvérisation pour déposer des films conducteurs transparents.

2. Quelles sont les compositions typiques des cibles ITO ?

Les compositions courantes comprennent des rapports pondéraux de 90:10 ou 95:5 entre In₂O₃ et SnO₂, optimisés pour la conductivité électrique et la transparence.

3. Quelles sont les méthodes de pulvérisation compatibles avec les cibles ITO ?

Les cibles ITO sont compatibles avec les systèmes de pulvérisation magnétron RF et DC.

Nous pouvons également fournir des verres ou du PET revêtus d'ITO, cliquez ici pour nous contacter !

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À propos de Stanford Advanced Materials (SAM)

Stanford Advanced Materials (SAM) Corporation est un fournisseur mondial d'une série de métaux purs, d'alliages, de céramiques et de minéraux tels que les oxydes, les chlorures, les sulfures, les oxysels, etc. Notre siège social, situé à Irvine, en Californie, aux États-Unis, a été créé en 1994 et a commencé à fournir des produits à base de terres rares de haute qualité pour la recherche et le développement (R&D).