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ST6581 Cible planaire aluminium-étain-cuivre (cible AlSnCu)

Catalogue No. ST6581
Composition chimique Al, Sn, Cu
La purée 99.9%
Forme Planaire

Lacible planaire aluminium-étain-cuivre de Stanford Advanced Materials est un matériau de pulvérisation de haute qualité conçu pour le dépôt uniforme de couches minces, offrant un mélange précis de conductivité, de maniabilité et de résistance à la corrosion pour les technologies de revêtement avancées.

Autres formes : Cible aluminium-étain-cuivre

Produits apparentés : Cible de pulvérisation en aluminium, Al, Cible de pulvérisation en aluminium-cuivre, Al/Cu, Cible de pulvérisation en étain, Sn, Cible de pulvérisation en étain-zinc, Sn/Zn, Cible de pulvérisation en cuivre, Cu, Cible de pulvérisation en aluminium-cuivre, Al/Cu

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France

    Purity

    99.9%

    • 99.9%
    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    Diameter

    2''

    • 2''
    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Other
    Thickness

    0.25''

    • 0.25''
    • 0.125''
    • All
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    Bonding

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    • Yes
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