ST0006 Cible de pulvérisation cathodique de cadmium (Cd)

Cible de pulvérisation de cadmium (Cd) Description

Notre cible de pulvérisation de cadmium (Cd) est fabriquée pour offrir des performances exceptionnelles dans les applications de pulvérisation. Grâce à des techniques de traitement avancées, la cible présente des propriétés matérielles cohérentes et une densité uniforme, garantissant une qualité de film optimale et un dépôt fiable. Elle est conçue pour être utilisée en microélectronique, dans les technologies d'affichage et dans divers processus de revêtement de couches minces, où la précision et la performance sont primordiales.

Applications des cibles de pulvérisation de cadmium (Cd)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour la fabrication de composants microélectroniques, d'écrans et de capteurs.
- Revêtements industriels : Fournit des couches de film uniformes et adhérentes pour diverses applications industrielles.
- Fabrication de composants électroniques : Garantit des performances et une fiabilité élevées dans la production d'appareils électroniques.
- Dispositifs photovoltaïques : Contribue à la création de cellules solaires efficaces à couche mince et d'autres composants liés à l'énergie.

Emballage des cibles de pulvérisation de cadmium (Cd)

Notre cible de pulvérisation de cadmium (Cd) est soigneusement emballée dans des conteneurs scellés sous vide afin de préserver sa pureté et son intégrité. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux besoins spécifiques des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment les cibles de pulvérisation cathodique de cadmium (Cd) ?
R : Elles sont largement utilisées dans les secteurs de l'électronique, de l'affichage, de la fabrication de capteurs et de l'industrie photovoltaïque pour le dépôt de couches minces de haute précision.

Q : Comment les cibles de pulvérisation de cadmium (Cd) sont-elles fabriquées ?
R : Elle est produite à l'aide de techniques de fabrication avancées qui garantissent une composition uniforme, une pureté élevée et des performances fiables au cours des processus de pulvérisation.

Q : Qu'est-ce que la pureté de ≥99% indique pour ce produit ?
R : Cela signifie que la cible contient un minimum d'impuretés, ce qui est essentiel pour obtenir des résultats de pulvérisation cohérents et de haute qualité.

Q : Des tailles personnalisées sont-elles disponibles pour cette cible de pulvérisation ?
R : Oui, le produit est disponible dans des tailles personnalisées pour répondre aux exigences de divers systèmes de pulvérisation.

Q : Comment les liaisons d'indium et d'élastomère contribuent-elles aux performances de la cible de pulvérisation ?
R : Ils assurent une connectivité thermique et électrique efficace pendant la pulvérisation, ce qui améliore la régularité du dépôt et les performances globales de la cible.