ST0215 Cible de pulvérisation de nitrure de silicium (Si₃N₄)

Cible de pulvérisation au nitrure de silicium (Si3N4) Description

Notre cible de pulvérisation au nitrure de silicium (Si3N4) est produite par frittage sous presse à chaud suivi d'un usinage de précision pour obtenir une structure à grains fins (2-5 μm) et une densité relative >99%. Cette approche de fabrication minimise la génération de particules pendant la pulvérisation et assure une érosion cohérente sur toute la surface de la cible.

La combinaison unique des propriétés du nitrure de silicium - dureté, excellente stabilité thermique et isolation électrique exceptionnelle - en fait le matériau préféré pour les applications de couches minces exigeantes. Chaque cible de pulvérisation Si3N4 est polie pour obtenir un état de surface <0,5 μm Ra et subit un contrôle qualité rigoureux avant d'être scellée sous vide dans des conditions de salle blanche pour éviter toute contamination.

Conçue principalement pour les systèmes de pulvérisation RF et RF-Réactive, cette cible céramique offre des propriétés de film répétables cycle après cycle, qu'elle soit utilisée dans des environnements de recherche ou de production à haut volume.

Spécification des cibles de pulvérisation de nitrure de silicium (Si3N4)

Applications des cibles de pulvérisation au nitrure de silicium (Si3N4)

Lescibles de pulvérisation du nitrure de silicium sont essentielles pour déposer des couches minces dures, isolantes et protectrices pour :

• Fabrication de semi-conducteurs: Essentiel pour les couches de passivation sur les circuits intégrés (CI) afin de les protéger contre l'humidité, la corrosion et la contamination ionique.

• Microélectronique et MEMS: Utilisés comme diélectriques de grille et couches isolantes dans les capteurs et les systèmes micro-électromécaniques.

• Revêtements optiques: Dépôt de films durables et durs pour les revêtements antireflets, les couches protectrices sur les lentilles et les composants laser.

• Barrières de diffusion: Crée des barrières efficaces pour empêcher l'interdiffusion entre les couches métalliques et semi-conductrices.

• Revêtements tribologiques avancés: Résistance à l'usure et à la corrosion pour les composants d'ingénierie de précision

• Recherche sur les couches minces: Fréquemment utilisé dans les laboratoires de science des matériaux pour le développement et la caractérisation des processus.

Conditionnement des cibles de pulvérisation du nitrure de silicium (Si3N4)

Nos cibles de pulvérisation au nitrure de silicium sont fabriquées selon des spécifications précises et emballées avec soin pour préserver la qualité et l'intégrité de leur surface. Chaque cible est nettoyée dans une salle blanche de classe 100 avant d'être scellée sous vide dans un emballage étanche à l'humidité pour éviter la contamination et l'oxydation pendant le stockage et le transport. Des solutions d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques des clients, garantissant que chaque cible arrive dans un état optimal pour une utilisation immédiate.