ST0129 Cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium (Al2O3)

Cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium (Al2O3) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium (Al2O3) est conçue pour offrir des performances exceptionnelles dans les processus de pulvérisation de précision. Fabriquée selon des contrôles de qualité rigoureux, cette cible offre un dépôt constant et fiable pour les applications de haute technologie. Sa grande pureté et ses performances robustes en font la cible idéale pour les applications critiques dans les semi-conducteurs, les écrans et les systèmes de revêtement avancés.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde d'aluminium (Al2O3)

- Fabrication de semi-conducteurs : Indispensable pour produire des couches minces de haute qualité dans les appareils électroniques.
- Technologies d'affichage : Idéales pour déposer des couches conductrices transparentes dans les écrans avancés.
- Systèmes de revêtement : Utilisés pour le dépôt de revêtements protecteurs et fonctionnels pour les applications optiques et aérospatiales.
- Recherche et développement : Parfait pour les installations expérimentales nécessitant des cibles de pulvérisation à haute performance.

Emballage des cibles de pulvérisation d'oxyde d'aluminium (Al2O3)

La cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium (Al2O3) est soigneusement emballée pour maintenir une qualité optimale pendant le stockage et le transport.
Emballage : Emballage sous vide adapté aux besoins du client, avec des tailles standard disponibles sur demande.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est un matériau utilisé dans les processus de dépôt par pulvérisation pour former des couches minces sur divers substrats dans des industries telles que la fabrication de semi-conducteurs et les technologies d'affichage.

Q : Que signifie RF-R dans le contexte des cibles de pulvérisation ?
R : RF-R fait référence à la pulvérisation réactive par radiofréquence, un procédé qui utilise l'énergie des radiofréquences dans un environnement de gaz réactif pour obtenir un dépôt de film précis.

Q : Comment la haute pureté (≥99%) de la cible de pulvérisation d'oxyde d'aluminium (Al2O3) est-elle assurée ?
R : La haute pureté est maintenue grâce à des mesures rigoureuses de contrôle de la qualité et à des techniques de fabrication avancées conçues pour minimiser les impuretés tout au long du processus de production.

Q : La taille des cibles de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, les cibles de pulvérisation d'oxyde d'aluminium (Al2O3) sont disponibles dans des tailles personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques des clients et aux besoins des applications.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation des cibles de pulvérisation d'oxyde d'aluminium (Al2O3) ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la technologie d'affichage, les systèmes de revêtement et la recherche et le développement bénéficient considérablement des performances supérieures de ces cibles de pulvérisation.