ST0185 Cible de pulvérisation de dioxyde de silicium (SiO2)

Description de la cible de pulvérisation de dioxyde de silicium (SiO2)

La cible de pulvérisation de dioxyde de silicium (SiO2) est conçue pour offrir des performances supérieures dans les applications industrielles de haute technologie. Fabriquée à l'aide de techniques de pointe, cette cible conserve une composition cohérente et une pureté élevée pour assurer un dépôt fiable dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et d'autres processus de précision. Sa conception sous forme de disques ou de formes personnalisées lui confère une grande polyvalence pour diverses applications de pulvérisation, tandis que son point de fusion élevé et sa structure stable en font un produit idéal pour les processus exigeants à haute température.

Applications des cibles de pulvérisation de dioxyde de silicium (SiO2)

- Fabrication de semi-conducteurs : Essentiel pour le dépôt de films isolants et de revêtements optiques de haute qualité.
- Applications optiques : Utilisées dans la fabrication de miroirs, de lentilles et d'autres composants optiques de précision.
- Technologies de revêtement : Parfaites pour le dépôt de couches minces utilisées dans les écrans électroniques et les cellules photovoltaïques.
- Recherche scientifique : Pour les applications de recherche avancée nécessitant un dépôt de silice de haute pureté.

Emballage des cibles de pulvérisation de dioxyde de silicium (SiO2)

Nos cibles de pulvérisation de dioxyde de silicium (SiO2) sont emballées dans des conditions strictes de contrôle de la qualité afin de préserver leur pureté et leurs performances. Chaque cible est scellée sous vide afin d'éviter toute contamination. Les options d'emballage sont adaptées aux applications de laboratoire et aux applications industrielles à grande échelle.

Questions fréquemment posées

Q : Quels sont les avantages de la pulvérisation RF pour les cibles de dioxyde de silicium ?
R : La pulvérisation RF offre un processus de dépôt stable et contrôlé, essentiel pour obtenir une épaisseur de film uniforme et des revêtements de haute qualité avec des matériaux isolants comme le SiO₂.

Q : La cible de pulvérisation de dioxyde de silicium peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disque et de formes personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques du processus et de l'application.

Q : Quelles sont les principales applications des cibles de pulvérisation de dioxyde de silicium (SiO2) ?
R : Elles sont largement utilisées dans la fabrication des semi-conducteurs, les revêtements optiques et les techniques de dépôt avancées pour les industries de haute technologie.

Q : Comment la pureté élevée (≥99%) du dioxyde de silicium est-elle maintenue pendant la production ?
R : Grâce à un contrôle de qualité rigoureux et à des procédés de fabrication avancés, chaque cible est produite de manière à maintenir le niveau de pureté élevé spécifié.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation des cibles de pulvérisation de dioxyde de silicium ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la production de composants optiques et la recherche sur les matériaux avancés tirent des avantages significatifs des performances et de la fiabilité de ces cibles.