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  • ST0058 Cible de pulvérisation de zinc (Zn)

    • ST0058 Cible de pulvérisation de zinc (Zn)

    Catalogue No. ST0058
    Composition Zn
    Numéro CAS 7440-66-6
    Pureté ≥99% (99,99% / 99,999% disponible)
    Forme Disques, ou sur mesure
    Diamètre 2", 3", 4", 5", 6" ou sur mesure
    Épaisseur 0,25", 0,125" ou sur mesure
    Type d'obligation Cuivre, ou sur mesure
    Synonymes Cible de pulvérisation de zinc, cible de zinc, cible de zinc de haute pureté

    Stanford Advanced Materials (SAM) fournit des cibles de pulvérisation de zinc (Zn) de haute pureté pour les applications de dépôt de couches minces nécessitant des couches conductrices fiables. Les cibles de zinc sont largement utilisées dans la production d'oxydes conducteurs transparents (TCO), en particulier pour les panneaux d'affichage, les cellules photovoltaïques et les dispositifs optoélectroniques. Nos cibles de zinc sont fondues sous vide et usinées avec précision pour obtenir une structure à grain fin et une densité relative de >99%, ce qui permet d'obtenir des performances constantes en matière de pulvérisation cathodique et un dépôt de film uniforme. Disponibles dans des géométries de disque standard ou des configurations personnalisées, avec des options de collage au cuivre pour une gestion thermique optimisée.

    Produits apparentés : Cible de pulvérisation AZO (oxyde de zinc dopé à l'aluminium) | Cible de pulvérisation ITO (oxyde d'indium et d'étain) | Cible de pulvérisation titane (Ti)

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    FAQ

    Q : De quelle pureté de zinc ai-je besoin pour les applications de cellules solaires ?

     

    Q : Qu'est-ce que l'AZO et pourquoi est-ce important ?

    Les films d'AZO peuvent être fabriqués à l'aide d'une technologie de pointe.

     

    Q : Les cibles de zinc s'oxydent-elles pendant le stockage ?

    Les cibles de zinc peuvent être utilisées pour des applications de traitement de surface.

     

    Q : Quelle est la méthode de pulvérisation la plus efficace pour le zinc ?

    A : le zinc étant conducteur, la pulvérisation à courant continu fonctionne bien. Pour les films de zinc pur, le courant continu est recommandé. Pour la pulvérisation réactive (fabrication de ZnO ou AZO), on utilise généralement la RF ou la DC pulsée avec de l'oxygène gazeux.

     

    Q : Pouvez-vous fournir une cible dont la granulométrie est contrôlée ?

     

    Q : Proposez-vous des cibles en oxyde de zinc dopé à l'aluminium (AZO) ?

    A : Oui, nous proposons des ciblesAZO avec différentes concentrations de dopage (typiquement 1-3% Al₂O₃). N'hésitez pas à nous contacter pour nous faire part de vos besoins spécifiques.

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