Cible de pulvérisation de platine (Pt) Description
Fabriquée pour maintenir une pureté de ≥99%, cette cible garantit des résultats de pulvérisation cohérents et des films de haute qualité dans les applications de semi-conducteurs et de microélectronique. Grâce à des techniques d'atomisation avancées, notre cible présente une densité uniforme et des propriétés d'adhérence supérieures, ce qui la rend adaptée aux applications industrielles haut de gamme.
Applications des cibles de pulvérisation de platine (Pt)
- Fabrication de semi-conducteurs : Idéale pour déposer des films minces et uniformes dans la production de circuits intégrés.
- Microélectronique : Utilisée dans la fabrication de composants électroniques nécessitant des caractéristiques de film précises et stables.
- Revêtements de surface : Appliqué dans les processus de revêtement avancés pour améliorer la résistance à l'usure et la conductivité.
- Recherche et développement : Fréquemment utilisé dans les laboratoires pour la recherche en science des matériaux et l'optimisation des processus.
Emballage des cibles de pulvérisation de platine (Pt)
Nos cibles de pulvérisation de platine (Pt) sont emballées de manière sécurisée afin de garantir leur intégrité pendant le transport et le stockage. Les produits sont scellés sous vide ou calés de manière appropriée, en fonction des exigences personnalisées, afin de maintenir la haute qualité de la cible jusqu'à ce qu'elle atteigne votre installation.
Questions fréquemment posées
Q : Pourquoi la cible de pulvérisation de platine (Pt) est-elle idéale pour les applications dans le domaine des semi-conducteurs ?
R : Sa grande pureté (≥99%) et sa stabilité chimique garantissent une qualité de film et une adhérence excellentes, essentielles pour la fabrication des semi-conducteurs.
Q : Que signifie la pulvérisation cathodique dans le contexte de ce produit ?
R : La pulvérisation cathodique fait référence à la méthode du courant continu utilisée pour le processus de dépôt, qui fournit une alimentation stable et continue en ions pour la formation d'un film uniforme.
Q : La cible de pulvérisation de platine (Pt) peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible est disponible dans des tailles et des formes personnalisées, y compris des disques ou d'autres conceptions sur mesure pour répondre aux besoins d'applications spécifiques.
Q : Comment la grande pureté de la cible est-elle maintenue pendant la production ?
R : Des techniques de fabrication avancées et des mesures rigoureuses de contrôle de la qualité sont mises en œuvre pour garantir que le produit conserve un niveau de pureté de ≥99 % tout au long de la production.
Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment des cibles de pulvérisation de platine (Pt) ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la microélectronique et les revêtements de surface avancés utilisent fréquemment ces cibles pour leurs performances de dépôt supérieures.
