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  • ST0038 Cible de pulvérisation de rhodium (Rh)

    • ST0038 Cible de pulvérisation de rhodium (Rh)

    Catalogue No. ST0038
    Composition Rh
    Numéro CAS 7440-16-6
    Pureté ≥99%
    Forme Disques, ou sur mesure
    Diamètre 2", 3", 4", 5", 6" ou sur mesure
    Épaisseur 0,25", 0,125" ou sur mesure
    Type d'obligation Cuivre, ou sur mesure
    Synonymes Cible de pulvérisation de rhodium, cible de rhodium

    La cible de pulvérisation de rhodium (Rh) est réputée pour ses excellentes performances de pulvérisation et sa résistance supérieure à la corrosion. Stanford Advanced Materials s'engage à fournir des matériaux innovants et de haute qualité grâce à une fabrication de pointe et à un contrôle de qualité rigoureux.

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    FAQ

    Quel est le délai de livraison d'une cible de pulvérisation de rhodium sur mesure ?

     

    Recommandez-vous de coller les cibles en rhodium sur une plaque de support ?

     

    Quelle est la différence entre les cibles de rhodium d'une pureté de 99 % et de 99,99 % ?

     

    Pouvez-vous nous indiquer la vitesse de pulvérisation typique de votre cible en rhodium ?

    A : Bien que les taux de pulvérisation dépendent de votre équipement et de vos paramètres spécifiques (puissance, pression, distance entre la cible et le substrat), notre équipe d'ingénieurs peut vous fournir des données de référence et des recommandations de processus basées sur la configuration de votre système.

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