Cible de siliciure de vanadium (VSi2) Description
Lacible de siliciure de vanadium (VSi2) présente une combinaison de propriétés physiques et chimiques souhaitables qui la rendent bien adaptée aux applications de films minces. Il a un point de fusion élevé d'environ 1920℃, assurant une excellente stabilité thermique dans des conditions de traitement extrêmes. Le VSi₂ présente également une bonne conductivité électrique, ce qui le rend utile dans les dispositifs électroniques et semi-conducteurs. Son faible coefficient de diffusion et sa forte liaison interfaciale contribuent à sa fiabilité en tant que barrière ou couche de contact. Chimiquement, le siliciure de vanadium est résistant à l'oxydation et à la corrosion, avec une surface dense et stable qui peut former des couches protectrices d'oxyde de silicium lorsqu'elle est exposée à l'air. La dureté mécanique et l'intégrité structurelle du composé améliorent encore ses performances lors de la pulvérisation et dans les couches minces qui en résultent.
Spécification de la cible de siliciure de vanadium (VSi2)
Propriétés
Matériau
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VSi2
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Pureté
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99.5%
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Densité
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4,42 g/cm3
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Forme
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Disque planaire
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*Lesinformations ci-dessus sont basées sur des données théoriques. Pour des exigences spécifiques et des demandes détaillées, veuillez nous contacter.
Taille: Sur mesure
Cible de siliciure de vanadium (VSi2) Applications
Lacible de siliciure de vanadium (VSi₂) est largement utilisée dans plusieurs domaines technologiques avancés en raison de ses propriétés thermiques, électriques et chimiques uniques. Dans l'industrie des semi-conducteurs, il sert de matériau clé pour former des contacts à faible résistance et des barrières de diffusion dans les dispositifs microélectroniques. Il est également utilisé dans les transistors à couche mince et les interconnexions en raison de son excellente conductivité et de sa stabilité thermique. Dans le domaine des revêtements protecteurs, le VSi₂ est utilisé pour déposer des couches résistantes à la corrosion et aux températures élevées sur les composants aérospatiaux et industriels. En outre, il trouve des applications dans les matériaux thermoélectriques et les électrodes de cellules solaires, où des performances fiables dans des conditions extrêmes sont essentielles.
Emballage de la cible de siliciure de vanadium (VSi2)
Nos produits sont emballés dans des cartons personnalisés de différentes tailles en fonction des dimensions du matériau. Les petits articles sont solidement emballés dans des boîtes en PP, tandis que les articles plus volumineux sont placés dans des caisses en bois personnalisées. Nous veillons à respecter scrupuleusement la personnalisation de l'emballage et à utiliser des matériaux de rembourrage appropriés afin d'assurer une protection optimale pendant le transport.

Emballage : Carton, caisse en bois ou sur mesure.
Processus de fabrication
1. Bref déroulement du processus de fabrication

2. Méthode d'essai
- Analyse de la composition chimique - vérifiée à l'aide de techniques telles que GDMS ou XRF pour garantir la conformité aux exigences de pureté.
- Essai des propriétés mécaniques - comprend des essais de résistance à la traction, de limite d'élasticité et d'allongement afin d'évaluer les performances du matériau.
- Inspection dimensionnelle - Mesure de l'épaisseur, de la largeur et de la longueur pour s'assurer du respect des tolérances spécifiées.
- Inspection de la qualité de la surface - Recherche de défauts tels que des rayures, des fissures ou des inclusions par un examen visuel et par ultrasons.
- Test de dureté - Détermine la dureté du matériau pour confirmer l'uniformité et la fiabilité mécanique.
Cible de siliciure de vanadium (VSi2) FAQs
Q1 : VSi₂ est-il compatible avec les systèmes de pulvérisation DC et RF ?
R1 : Oui, les cibles de siliciure de vanadium sont compatibles avec les systèmes de pulvérisation DC et RF, en fonction de la configuration du dépôt et des caractéristiques du film requises.
Q2 : Comment dois-je stocker et manipuler la cible VSi₂ ?
R2 : Les cibles VSi₂ doivent être stockées dans un environnement sec et frais, à l'abri de l'humidité et des produits chimiques corrosifs. Manipulez-les avec des gants pour éviter de contaminer la surface de pulvérisation.
Q3 : Puis-je demander une composition personnalisée ou une variante dopée de VSi₂ ?
A3 : SAM peut fournir des compositions personnalisées ou des variantes dopées de siliciure de vanadium sur demande. Veuillez nous contacter avec vos spécifications pour obtenir un devis.
Tableau de comparaison des performances avec les produits concurrents
Cible de siliciure de vanadium (VSi2) par rapport aux matériaux concurrents
Propriété
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Cibles basées sur le VSi₂
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Cible WSi₂
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Cible TaN (nitrure de tantale)
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Formule chimique
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VSi₂
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WSi₂
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TaN
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Applications
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- Dépôt de couches minces
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- Dépôt de couches minces
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- Revêtements durs
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- Dispositifs à semi-conducteurs
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- Microélectronique
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- Revêtements de résistance à l'usure
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- Électronique à haute température
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- Interconnexions, résistances
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- Barrières de diffusion
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- Dispositifs optiques
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- Applications des semi-conducteurs
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Point de fusion
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~ 1850℃
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~ 3160℃
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~ 3000℃
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Densité (g/cm³)
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~ 5.3
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~ 6.7
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~ 14.1
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Conductivité électrique
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Modérée
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Faible
|
Faible
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Conductivité thermique
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Modérée à élevée
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Élevée
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Modérée à élevée
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Dureté
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Modérée à élevée
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Élevée
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Très élevée
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Réactivité
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Réagit avec l'oxygène à haute température
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Stable à l'air
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Stable dans l'air, réactif avec les acides forts
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Forme
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Généralement utilisé dans les cibles de pulvérisation et les films minces
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Courant dans la pulvérisation de films minces
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Utilisé pour les couches minces et les revêtements
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Résistance à l'oxydation
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Modérée (forme une couche d'oxyde protectrice)
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Élevée (forme une couche d'oxyde protectrice)
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Élevée (forme une couche d'oxyde stable)
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Informations connexes
- Matières premières - Vanadium (V)
Le vanadium est un métal de transition gris argenté de numéro atomique 23, connu pour sa force, sa résistance à la corrosion et sa capacité à former des composés stables. Il est couramment utilisé dans les alliages d'acier pour améliorer la dureté et la durabilité. Le vanadium joue également un rôle dans la catalyse chimique et est apprécié dans les matériaux avancés pour sa résistance à l'oxydation et sa stabilité thermique. Il contribue à des composés ayant des propriétés conductrices et structurelles souhaitables dans les matériaux électroniques.
- Matières premières - Silicium (Si)
Le silicium est un métalloïde de numéro atomique 14 et le deuxième élément le plus abondant dans la croûte terrestre. Il est fondamental pour l'électronique moderne, servant de matériau de base pour la plupart des semi-conducteurs et des circuits intégrés. Le silicium possède d'excellentes propriétés semi-conductrices, une grande stabilité thermique et forme des liaisons fortes avec l'oxygène, ce qui le rend essentiel dans les applications du verre, de la céramique et des cellules solaires. Sa polyvalence et son abondance en ont fait une pierre angulaire des industries de l'électronique et de la science des matériaux.
Spécifications
Propriétés
Matériau
|
VSi2
|
Pureté
|
99.5%
|
Densité
|
4,42 g/cm3
|
Forme
|
Disque planaire
|
*Lesinformations ci-dessus sont basées sur des données théoriques. Pour des exigences spécifiques et des demandes détaillées, veuillez nous contacter.
Taille: Sur mesure