Cible de pulvérisation de trioxyde de titane (Ti2O3) Description
La cible de pulvérisation de trioxyde de titane (Ti2O3) est méticuleusement conçue pour répondre aux exigences des processus modernes de dépôt de couches minces. Fabriquée avec un souci de pureté (≥99%) et de précision, cette cible de pulvérisation est disponible sous forme de disques standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des spécifications industrielles spécifiques. Avec un point de fusion d'environ 2130℃ et une densité de 4,49 g/cm³, le matériau est optimisé pour les applications à haute température dans les industries des revêtements avancés et des semi-conducteurs. Conçue pour offrir des performances et une reproductibilité exceptionnelles, notre cible de pulvérisation favorise la formation de films fiables et cohérents pour diverses applications de haute technologie.
Applications des cibles de pulvérisation du trioxyde de titane (Ti2O3)
- Dépôt de couches minces : Essentiel pour la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs, de revêtements optiques et de composants microélectroniques.
- Revêtements avancés : Utilisés dans la production de revêtements résistants à l'usure et aux températures élevées dans tous les secteurs industriels.
- Recherche et développement : Idéal pour les installations expérimentales dans le domaine de la science des matériaux et de la recherche en ingénierie.
- Fabrication de composants électroniques : Prend en charge les processus de dépôt nécessaires pour les appareils électroniques et les capteurs modernes.
Emballage des cibles de pulvérisation du trioxyde de titane (Ti2O3)
Notre cible de pulvérisation de trioxyde de titane (Ti2O3) est emballée selon les spécifications du client afin de garantir une conservation optimale et une manipulation aisée. Les méthodes d'emballage standard comprennent le scellement sous vide et des configurations d'emballage personnalisées pour maintenir l'intégrité du matériau pendant le transport et le stockage.
Questions fréquemment posées
Q : Qu'est-ce qui fait du trioxyde de titane (Ti2O3) un matériau idéal pour les cibles de pulvérisation ?
R : Sa grande pureté (≥99%), son point de fusion élevé et ses propriétés physiques robustes garantissent des performances constantes dans les processus de dépôt à haute température.
Q : Les formes des cibles de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, les cibles sont disponibles sous forme de disques standard ainsi que sous forme de formes personnalisées pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.
Q : Comment le point de fusion élevé de ~2130℃ profite-t-il aux applications de pulvérisation ?
R : Le point de fusion élevé permet au matériau de résister aux contraintes thermiques intenses pendant le dépôt, ce qui garantit la durabilité et la stabilité des performances.
Q : Quel rôle joue la liaison indium dans ces cibles de pulvérisation ?
R : La liaison à l'indium renforce la solidité de la connexion entre le matériau de la cible et la plaque de support, ce qui améliore le transfert de chaleur et les performances globales de la cible.
Q : Dans quelles industries les cibles de pulvérisation au trioxyde de titane sont-elles couramment utilisées ?
R : Elles sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, la production de revêtements optiques, l'électronique de pointe et les laboratoires de recherche spécialisés dans le dépôt de couches minces.
