Cible de pulvérisation d'oxyde de chrome (Cr2O3) Description
La cible de pulvérisation d'oxyde de chrome (Cr2O3) est conçue à l'aide de techniques de fabrication de pointe pour garantir une uniformité exceptionnelle, une densité élevée et une durabilité supérieure dans des environnements de dépôt exigeants. Conçue spécifiquement pour la pulvérisation RF et RF-R, cette cible garantit des performances optimales avec un minimum d'impuretés, ce qui en fait un choix fiable pour les applications de haute précision.
Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de chrome (Cr2O3)
- Fabrication de semi-conducteurs : Permet le dépôt précis de couches minces pour les circuits intégrés et les dispositifs microélectroniques.
- Revêtements optiques : Idéal pour le dépôt de revêtements durables et de haute performance dans les composants optiques.
- Cellules solaires : Facilite la formation de couches efficaces et stables dans les applications photovoltaïques.
- Céramiques avancées : Utilisé dans diverses techniques de traitement des céramiques nécessitant des cibles d'oxyde de haute pureté.
- Recherche et développement : Soutient les processus de dépôt expérimentaux pour les applications de matériaux innovants.
Emballage des cibles de pulvérisation d'oxyde de chrome (Cr2O3)
Nos cibles de pulvérisation d'oxyde de chrome (Cr2O3) sont soigneusement emballées afin de préserver leur intégrité pendant le stockage et le transport. Les produits sont généralement scellés sous vide et emballés selon les spécifications du client afin de garantir une livraison sûre et de préserver la qualité du matériau.
Questions fréquemment posées
Q : Que signifie la pulvérisation RF ?
R : La pulvérisation RF fait référence à l'utilisation de radiofréquences pour générer un plasma qui déloge le matériau cible pour le dépôt de couches minces, ce qui le rend approprié pour les matériaux isolants et diélectriques.
Q : Quelle est l'importance de la pureté d'une cible de pulvérisation ?
R : Une pureté élevée (≥99%) est essentielle car elle minimise la contamination des films déposés, ce qui garantit la performance et la fiabilité du produit final.
Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, le produit est disponible sous forme de disque standard ou peut être personnalisé en fonction des exigences spécifiques du processus.
Q : Quelles sont les industries qui bénéficient de l'utilisation de cibles de pulvérisation d'oxyde de chrome ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, l'optique, l'énergie solaire et les céramiques avancées, ainsi que les secteurs de la recherche et du développement, bénéficient des performances élevées des cibles de pulvérisation d'oxyde de chrome.
Q : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour ces cibles de pulvérisation ?
R : Il est recommandé de stocker les cibles dans un environnement contrôlé, à l'abri de l'humidité et des contaminants, généralement dans un emballage scellé sous vide afin de préserver leur état impeccable.
