Cible de pulvérisation Nickel Chrome Silicium (Ni/Cr/Si) Description
La cible de pulvérisation de nickel chrome silicium (Ni/Cr/Si) est conçue pour une grande fiabilité dans les applications de pulvérisation. Avec une composition de Ni/Cr/Si et une pureté de ≥99%, ces cibles sont fabriquées sous forme de disques ou sur mesure pour répondre à des besoins industriels spécifiques. Elles sont conçues pour offrir des performances constantes lors des processus de dépôt de couches minces et sont bien adaptées aux applications de fabrication de semi-conducteurs, de revêtements optiques et de traitements de surface avancés.
Applications des cibles de pulvérisation de nickel-chrome-silicium (Ni/Cr/Si)
- Dépôt de couches minces : Idéal pour créer des couches minces uniformes dans les industries des semi-conducteurs et de l'électronique.
- Fabrication de semi-conducteurs : Utilisée dans la production de circuits intégrés et de divers dispositifs microélectroniques.
- Revêtements de surface : Employés pour déposer des revêtements durables et de haute qualité sur des composants industriels.
- Revêtements optiques : Appliqués dans la fabrication de miroirs, de lentilles et d'autres dispositifs optiques.
Emballage des cibles de pulvérisation du nickel chrome silicium (Ni/Cr/Si)
Nos cibles de pulvérisation de nickel chrome silicium (Ni/Cr/Si) sont soigneusement emballées pour préserver l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Elles sont emballées sur mesure selon les spécifications du client, ce qui garantit leur protection et leur facilité d'utilisation dans divers systèmes de pulvérisation industrielle.
Questions fréquemment posées
Q : Quelle est l'application principale des cibles de pulvérisation ?
R : Les cibles de pulvérisation sont principalement utilisées pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, les applications de revêtement de surface et la production d'appareils optiques.
Q : En quoi la haute pureté (≥99%) est-elle bénéfique au processus de pulvérisation ?
R : La haute pureté garantit une contamination minimale pendant le dépôt, ce qui permet d'obtenir des films présentant une excellente uniformité, une bonne adhérence et d'excellentes propriétés électriques.
Q : Ces cibles de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées pour des applications industrielles spécifiques ?
R : Oui, les cibles sont disponibles dans des tailles et des formes personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques de divers procédés industriels de pointe.
Q : Que signifie l'attribut "Type de liaison" pour ces cibles ?
R : Le "type de liaison" (indium, élastomère) spécifie la méthode de liaison utilisée pour fixer le matériau de la cible à la plaque de support, ce qui est essentiel pour la gestion thermique et la stabilité du processus pendant la pulvérisation.
Q : Y a-t-il des considérations à prendre en compte concernant le stockage de ces cibles de pulvérisation ?
R : Oui, il est important de stocker les cibles dans un environnement contrôlé et de les protéger par un emballage approprié afin d'éviter toute contamination et tout dommage physique avant utilisation.
