ST0084 Cible de pulvérisation cathodique cuivre-chrome (Cu/Cr)

Cible de pulvérisation cathodique cuivre-chrome (Cu/Cr) Description

La cible de pulvérisation cathodique de cuivre-chrome (Cu/Cr) est conçue pour la précision et la fiabilité des processus de dépôt de couches minces. Utilisant des techniques de fabrication de pointe, cette cible fournit constamment des propriétés matérielles optimales pour les applications de haute technologie. Sa conception garantit une excellente adhérence, ce qui en fait un choix privilégié pour les industries de l'électronique, de l'optique et du revêtement. Avec une pureté de ≥99% et des formes personnalisables, elle répond aux exigences complexes de la technologie moderne de pulvérisation.

Applications des cibles de pulvérisation cuivre-chrome (Cu/Cr)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour produire des films métalliques de haute qualité dans les domaines de l'électronique et de l'optique.
- Revêtement de surface : Fournit des revêtements durables et uniformes pour les applications industrielles résistantes à l'usure.
- Microélectronique : Permet de fabriquer des composants électroniques à micro-échelle aux performances fiables.
- Recherche et développement : Largement utilisé dans les montages expérimentaux pour la science des matériaux et les études d'ingénierie avancées.

Emballage des cibles de pulvérisation du cuivre-chrome (Cu/Cr)

Nos cibles de pulvérisation cathodique cuivre-chrome (Cu/Cr) sont soigneusement emballées pour conserver leur état impeccable pendant le transport et le stockage. Un emballage sous vide est disponible, avec des options de poids personnalisées pour répondre aux besoins spécifiques des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment des cibles de pulvérisation ?
R : Les cibles de pulvérisation sont largement utilisées dans les domaines de l'électronique, de l'optique, de la microélectronique et de la recherche sur les matériaux pour les processus de dépôt de couches minces.

Q : Comment la pureté des cibles de pulvérisation est-elle assurée ?
R : La pureté est maintenue grâce à des mesures rigoureuses de contrôle de la qualité et à des techniques analytiques avancées qui permettent de vérifier que le matériau répond à la norme ≥99%.

Q : Des formes personnalisées sont-elles disponibles pour les cibles de pulvérisation cuivre-chrome ?
R : Oui, nos cibles sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelle est l'importance de la liaison entre l'indium et l'élastomère dans ces cibles ?
R : La liaison entre l'indium et l'élastomère assure une adhérence optimale et une stabilité mécanique pendant le processus de pulvérisation, ce qui garantit des performances constantes.

Q : Comment l'alliage cuivre-chrome améliore-t-il le processus de pulvérisation ?
R : L'alliage Cu/Cr offre une conductivité et une durabilité excellentes, qui sont essentielles pour obtenir des dépôts de couches minces uniformes et de haute qualité dans les applications industrielles de pointe.