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NK3861 Film CVD de tellurure de nickel (NiTe2)

Catalogue No. NK3861
Matériau SiO2/Si, quartz, saphir, plaquettes de silicium, PET, etc.
Dimensions 10*10, 15*15, 20*20 mm
Méthode de fabrication Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

Nous fournissons des films CVD de tellurure de nickel sur divers substrats, tels que SiO2/Si, quartz, saphir, plaquettes de silicium, PET, etc. Stanford Advanced Materials (SAM) possède une grande expérience dans la fabrication et la fourniture de films CVD à base de tellurure de nickel de haute qualité.

Produits apparentés : Film CVD de diséléniure de tungstène (WSe2), Film CVD de séléniure de bismuth (Bi2Se3), Film Saphir de diséléniure d'étain (SnSe2)

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