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WM3862 Film CVD de diséléniure de tungstène (WSe2)

Catalogue No. WM3862
Matériau SiO2/Si, plaquettes de silicium, PET, PI, ITO, FTO, verre.
Dimensions 10*10, 15*15, 20*20 mm, ou sur mesure
Méthode de fabrication Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

Nous fournissons des films CVD de diséléniure de tungstène sur divers substrats, tels que : SiO2/Si, plaquettes de silicium, PET, PI, ITO, FTO, verre. Stanford Advanced Materials (SAM) possède une grande expérience dans la fabrication et la fourniture de films CVD de diséléniure de tungstène de haute qualité.

Produits connexes : Film CVD de tellurure de nickel (NiTe2), Film CVD de séléniure de bismuth (Bi2Se3), Film Saphir de diséléniure d'étain (SnSe2)

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