ST11179 Cible planaire Cobalt Fer Tantale Bore, cible CoFeTaB

Cible planaire cobalt fer tantale bore, cible CoFeTaB Description

La cible planaire Cobalt Fer Tantale Bore, cible CoFeTaB utilise une matrice d'alliage homogène Co-Fe-Ta-B formulée pour les applications de pulvérisation. La conception planaire améliore l'érosion uniforme de la cible, garantissant un dépôt de film constant dans les systèmes de traitement des semi-conducteurs. Les dimensions personnalisables permettent la compatibilité avec une gamme d'équipements, tandis que la composition contrôlée de l'alliage minimise l'empoisonnement de la cible et maintient des taux de dépôt réguliers essentiels pour la fabrication de couches minces de précision.

Cible planaire Cobalt Fer Tantale Bore, CoFeTaB Caractéristiques de la cible

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible planaire en cobalt fer tantale bore, cible CoFeTaB Applications

1.électronique
- Utilisée comme source de pulvérisation dans le dépôt de couches minces de semi-conducteurs pour obtenir un revêtement uniforme en tirant parti de la conception planaire de la cible.

2)Industrie
- Utilisée comme cible de revêtement dans la production d'écrans plats pour obtenir des propriétés de film homogènes grâce au contrôle de la composition de l'alliage.

3)Automobile
- Utilisée comme cible de pulvérisation dans la fabrication de capteurs pour améliorer l'uniformité du film grâce à des dimensions personnalisables.

Cible planaire Cobalt Fer Tantale Bore, CoFeTaB Target Packing

La cible CoFeTaB est conditionnée dans un emballage antistatique et rembourré afin de minimiser les dommages mécaniques et la contamination. Chaque cible est scellée pour la protéger contre l'humidité et l'exposition aux particules pendant le transport et le stockage. L'emballage garantit le maintien de l'intégrité du matériau dans des conditions de température contrôlée. Le scellage sous vide, l'étiquetage spécialisé et la compartimentation personnalisée sont disponibles en option pour répondre aux exigences spécifiques de l'industrie.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation sont des composants critiques dans le dépôt de couches minces, où des compositions d'alliage précises influencent directement l'uniformité du film et la performance de l'appareil. L'utilisation d'alliages de cobalt dans la science des matériaux a joué un rôle déterminant dans l'avancement des processus pour les semi-conducteurs et les technologies d'affichage.

La compréhension de l'interaction entre le contrôle de la composition et la géométrie de la cible facilite l'amélioration de la répétabilité du processus et de l'efficacité du dépôt. Les progrès constants en matière de contrôle de la qualité et de techniques de production permettent d'affiner les caractéristiques de performance de ces cibles, ce qui favorise l'obtention de meilleurs résultats dans les environnements de fabrication de haute précision.