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Chimie et pharmacie Industrie pharmaceutique Aérospatiale Agriculture Automobile Fabrication de produits chimiques Dentisterie Électronique Stockage d'énergie et batteries Piles à combustible Métaux de qualité Bijoux et mode Eclairage Médical Pétrole et gaz Optique Papier et pâte à papier Produits pharmaceutiques et cosmétiques Placage Recherche et laboratoire Énergie solaire L'espace Producteurs d'acier et d'alliages Équipement sportif Textiles et tissus
CANDIDATURES
Applications du tungstène Métallurgie Semi-conducteurs Aimants en terres rares Catalyseur Poudre d'impression 3D Poudre d'alliage à haute entropie Moulage par injection de métal Fabrication additive Revêtements par pulvérisation thermique Pressage isostatique à chaud Application des terres rares Catalyseurs environnementaux Bande de marquage Matériaux OLED Fil de thermocouple Garnitures et internes Batteries Li-ion et produits chimiques électroniques Poudres métalliques pour outils diamantés Poudre magnétique douce
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  • Principes de base du PVD

    • Principes de base du PVD

    Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est omniprésent - des puces de votre téléphone aux revêtements de votre montre. Cette série traite des méthodes de dépôt physique en phase vapeur, de la manière de les choisir et des détails pratiques dont les ingénieurs ont réellement besoin. Cette série vous est présentée par Stanford Advanced Materials (SAM), un fournisseur de cibles de pulvérisation et de matériaux d'évaporation.

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