VD0805 Matériaux d'évaporation à base de siliciure de nickel (NiSi2)

Description des matériaux d'évaporation à base de siliciure de nickel

Le matériau d'évaporation à base de siliciure de nickel (NiSi2) est un matériau d'évaporation céramique à base de siliciure. Les matériaux d'évaporation NiSi2 de haute pureté jouent un rôle important dans les processus de dépôt afin de garantir un film déposé de haute qualité.

Le matériau d'évaporation à base de siliciurede nickel, fourni par Stanford Advanced Materials, est un matériau d'évaporation céramique à base de siliciure dont la formule chimique est NiSi2. Les matériaux d'évaporation NiSi2 de haute pureté jouent un rôle important dans les processus de dépôt, garantissant la création de films déposés de haute qualité. Stanford Advanced Materials (SAM) excelle dans la production de matériaux d'évaporation avec des niveaux de pureté atteignant 99,9995 %, en utilisant des processus d'assurance qualité rigoureux pour garantir une fiabilité irréprochable des produits.

Spécifications des matériaux d'évaporation à base de siliciure de nickel

Application des matériaux d'évaporation à base de siliciure de nickel

Lesmatériaux d'évaporation à base de siliciure de nickel trouvent de nombreuses applications dans les processus de dépôt, notamment le dépôt de semi-conducteurs, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt physique en phase vapeur (PVD). Ils sont principalement utilisés dans l'optique, offrant une protection contre l'usure, des revêtements décoratifs et contribuant aux technologies d'affichage.

Emballage des matériaux d'évaporation du siliciure de nickel

Pour garantir une identification et un contrôle de qualité rationalisés, les matériaux d'évaporation du siliciure de nickel sont méticuleusement étiquetés et marqués à l'extérieur. Nous prenons le plus grand soin à prévenir tout dommage potentiel qui pourrait survenir pendant le stockage ou le transport.