ST1013 Cible de pulvérisation cathodique en titanate de baryum et strontium, BaxSr(1-x)TiO3

Description de la cible de pulvérisation de titanate de baryum et de strontium

La cible de pulvérisation du titanate de baryum et de strontium, BaxSr(1-x)TiO3, est conçue pour offrir des performances exceptionnelles dans les applications de pulvérisation. Fabriquée avec une grande précision et une pureté de ≥99%, elle offre un comportement cohérent et une grande fiabilité lors des processus de dépôt de couches minces. Sa stabilité thermique robuste, soulignée par un point de fusion de 1625°C et une plage de densité optimale de 5,5-6,0 g/cm³, le rend idéal pour la production de semi-conducteurs et d'appareils électroniques avancés.

Applications des cibles de pulvérisation du titanate de baryum et de strontium

- Dépôt de couches minces : Fournit des films de haute qualité dans les dispositifs à semi-conducteurs et les capteurs.
- Composants électroniques : Utilisés dans la fabrication de composants de précision pour les radiofréquences, les condensateurs et d'autres circuits électroniques.
- Revêtements avancés : Fournit des revêtements de surface fiables pour une meilleure durabilité dans les environnements difficiles.
- Recherche et développement : Idéal pour les installations expérimentales et le développement de technologies innovantes de couches minces.

Conditionnement des cibles de pulvérisation du titanate de baryum et de strontium

La cible de pulvérisation est disponible dans des tailles personnalisées pour répondre aux exigences d'applications spécifiques. Les solutions d'emballage sont adaptées pour assurer une protection optimale pendant le stockage et le transport.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est la composition chimique exacte de la cible de pulvérisation ?
R : La composition est BaxSr(1-x)TiO3, offrant de hautes performances et une grande fiabilité dans les applications de pulvérisation.

Q : Quelles sont les formes disponibles pour ce produit ?
R : Le produit est disponible sous forme de disques ou peut être fabriqué sur mesure pour répondre aux exigences d'une application spécifique.

Q : Quel est le niveau de pureté de la cible de pulvérisation ?
R : La cible de pulvérisation a une pureté de ≥99%, ce qui garantit des performances exceptionnelles dans les applications avancées.

Q : En quoi le point de fusion de 1625°C est-il avantageux pour la cible de pulvérisation ?
R : Un point de fusion de 1625°C garantit une excellente stabilité thermique et une grande durabilité lors des traitements à haute température.

Q : Puis-je demander des tailles personnalisées pour cette cible de pulvérisation ?
R : Oui, le produit est disponible dans des tailles personnalisées pour répondre parfaitement aux besoins de votre application spécifique.