ST1012 Cible de pulvérisation cathodique en carbonate de baryum, BaCO3

Cible de pulvérisation du carbonate de baryum Description

La cible de pulvérisation du carbonate de baryum, BaCO3, est conçue pour le dépôt de couches minces de précision dans les applications industrielles de haute technologie. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, elle offre une cohérence et des performances excellentes au cours du processus de pulvérisation. Avec un point de fusion de 811°C et une densité de 3,89 g/cm³, cette cible offre une stabilité thermique et une intégrité matérielle supérieures. Disponible en forme de disque standard ou en configuration personnalisée, elle est idéale pour les applications nécessitant des tailles et des spécifications de cibles de pulvérisation sur mesure.

Applications des cibles de pulvérisation en carbonate de baryum

- Microélectronique : Utilisée pour déposer des revêtements diélectriques et fonctionnels de haute qualité dans les dispositifs à semi-conducteurs.
- Revêtements optiques : Assure la formation d'un film précis et uniforme pour les écrans et les composants optiques.
- Dépôt de couches minces : Idéal pour les processus de pulvérisation dans diverses applications de revêtement avancées.
- Revêtements industriels : Convient aux revêtements protecteurs et décoratifs des outils et équipements industriels de haute performance.

Emballage des cibles de pulvérisation du carbonate de baryum

Notre cible de pulvérisation de carbonate de baryum est soigneusement emballée afin de préserver sa pureté et son intégrité structurelle tout au long du transport et du stockage. Les options d'emballage sont disponibles dans des formats scellés sous vide, avec des tailles personnalisées pour répondre aux exigences de production spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'application principale de la cible de pulvérisation en carbonate de baryum, BaCO3 ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans des secteurs tels que les semi-conducteurs, les écrans et la microélectronique, afin de garantir des revêtements de haute qualité.

Q : Quel est le niveau de pureté de cette cible de pulvérisation ?
R : Le produit est fabriqué avec une pureté de ≥99%, ce qui garantit des performances constantes pendant les processus de pulvérisation.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disques standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre aux exigences spécifiques de l'application et de l'équipement.

Q : Comment le point de fusion de 811°C affecte-t-il les performances du produit ?
R : Le point de fusion élevé de 811°C assure une excellente stabilité thermique pendant le processus de pulvérisation, ce qui contribue à un dépôt fiable et uniforme du film.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation de cette cible de pulvérisation ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la production d'écrans optiques et la microélectronique bénéficient largement de sa grande pureté et de ses performances précises en matière de pulvérisation.