ST1001 Cible de pulvérisation de platine iridium, Pt-Ir

Cible de pulvérisation platine-iridium Description

La cible de pulvérisation Platinum Iridium, Pt-Ir est conçue pour offrir des performances exceptionnelles dans les applications de pulvérisation. Fabriqué avec un souci de pureté (≥99%) et de précision, ce produit est conçu pour répondre aux exigences rigoureuses du dépôt de couches minces et de la fabrication microélectronique. Ses formes de disque sur mesure offrent une polyvalence pour diverses exigences industrielles, garantissant des résultats de pulvérisation fiables et cohérents.

Applications des cibles de pulvérisation platine-iridium

- Fabrication de semi-conducteurs : Idéale pour le dépôt de couches minces dans la microélectronique et les circuits intégrés.
- Revêtement de surface : Utilisées dans les processus de pulvérisation avancés pour créer des revêtements uniformes de haute qualité pour les composants optiques, automobiles et aérospatiaux.
- Recherche et développement : Convient aux installations expérimentales nécessitant des cibles de pulvérisation de haute pureté dans les domaines de la science des matériaux et de la nanotechnologie.
- Fabrication industrielle : Employées dans les processus de fabrication de précision où la haute performance et l'uniformité sont cruciales.

Emballage des cibles de pulvérisation de platine iridium

Nos cibles de pulvérisation de platine iridien sont soigneusement emballées pour préserver leur intégrité et leur pureté pendant le transport. Chaque cible est solidement emballée et placée dans un emballage protecteur conçu sur mesure pour la protéger des dommages physiques et de la contamination jusqu'à son installation.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement les cibles de pulvérisation platine-iridium ?
R : Elles sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, le dépôt de couches minces et les applications de revêtement de surface haut de gamme dans les secteurs de l'automobile, de l'aérospatiale et de la microélectronique.

Q : Comment ces cibles de pulvérisation sont-elles fabriquées ?
R : Les cibles sont produites à l'aide de techniques d'ingénierie de précision qui garantissent une grande pureté et des spécifications personnalisées, répondant ainsi aux normes rigoureuses requises pour les applications de pulvérisation avancées.

Q : La forme et la taille de la cible de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, les cibles sont disponibles sous forme de disques standard ainsi que sous forme de configurations sur mesure pour répondre à des exigences industrielles spécifiques.

Q : Que signifie un niveau de pureté de ≥99% pour ce produit ?
R : Un niveau de pureté de ≥99% indique que le matériau contient un minimum d'impuretés, ce qui est essentiel pour obtenir une pulvérisation uniforme et un dépôt de couches minces de haute qualité.

Q : Comment doit-on manipuler la cible de pulvérisation platine-iridium pendant l'installation et l'entretien ?
R : Il est recommandé de manipuler le produit dans un environnement propre et contrôlé et de suivre les procédures d'installation et de maintenance standard de l'industrie afin de préserver son intégrité et ses performances.