ST0990 Cible de pulvérisation d'oxyde de strontium et de cobalt, SrCoO3

Cible de pulvérisation d'oxyde de strontium et de cobalt Description

La cible de pulvérisation d'oxyde de cobalt et de strontium, SrCoO3, est conçue pour les processus avancés de dépôt de couches minces, offrant des performances supérieures dans les domaines de la microélectronique, des capteurs et des dispositifs énergétiques. Développée à l'aide de techniques de fabrication de pointe, cette cible garantit une qualité de film uniforme, une reproductibilité élevée et une efficacité de pulvérisation optimale pour les environnements industriels exigeants.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de strontium et de cobalt

- Microélectronique : Idéale pour former des couches minces de haute qualité dans les circuits intégrés et les dispositifs à semi-conducteurs.
- Technologie des capteurs : Utilisée dans la fabrication de capteurs et d'actionneurs pour lesquels des caractéristiques de film précises sont essentielles.
- Dispositifs énergétiques : Convient à la production de composants pour les applications énergétiques émergentes telles que les piles à combustible et les batteries.
- Revêtements avancés : Convient au dépôt de revêtements protecteurs et fonctionnels dans diverses industries de haute technologie.

Cibles de pulvérisation d'oxyde de strontium et de cobalt

Nos cibles de pulvérisation d'oxyde de cobalt et de strontium sont conditionnées dans des emballages protecteurs, exempts de toute contamination, afin de garantir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation d'oxyde de strontium et de cobalt ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans les domaines de la microélectronique, de la technologie des capteurs, des revêtements avancés et de la fabrication de dispositifs énergétiques.

Q : Quelles sont les techniques de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : La cible est compatible avec une variété de procédés de dépôt physique en phase vapeur, y compris la pulvérisation DC et RF, en fonction de la configuration du système.

Q : Cette cible de pulvérisation nécessite-t-elle des procédures de manipulation particulières ?
R : Oui, elle doit être manipulée dans un environnement propre avec une exposition minimale aux contaminants et stockée dans un emballage sécurisé et protecteur pour préserver son intégrité.

Q : Est-il possible de fabriquer des formes et des tailles personnalisées pour des applications spéciales ?
R : Oui, des formes et des tailles personnalisées sont disponibles sur la base des spécifications du client pour répondre aux besoins d'applications uniques.

Q : Quelles sont les normes de qualité auxquelles ce produit est conforme ?
R : Notre cible de pulvérisation d'oxyde de strontium et de cobalt est produite selon des directives strictes de contrôle de la qualité, garantissant une pureté élevée (≥99%) et le respect des meilleures pratiques de l'industrie pour les applications de matériaux avancés.