ST0988 Cible de pulvérisation du phosphore de silicium, Si-P

Cible de pulvérisation de phosphore de silicium Description

La cible de pulvérisation de phosphore de silicium, Si-P, est un matériau de pointe conçu spécifiquement pour les applications de pulvérisation avancées. Fabriquée sous des contrôles de qualité stricts, cette cible offre une pureté exceptionnelle (≥99%) et est disponible sous forme de disque et de formes personnalisées pour répondre à diverses exigences industrielles. Sa composition unique garantit des performances fiables dans les processus de dépôt de couches minces, ce qui en fait un choix privilégié pour les applications semi-conductrices et optoélectroniques.

Ce produit est optimisé pour assurer une pulvérisation homogène et efficace, améliorant ainsi la qualité des films déposés. Il est particulièrement adapté aux processus dans lesquels la composition et les propriétés précises des matériaux sont essentielles pour la performance des dispositifs.

Applications de la cible de pulvérisation du phosphore de silicium

- Fabrication de semi-conducteurs : Idéale pour la fabrication de couches minces utilisées dans les circuits intégrés et autres dispositifs microélectroniques.
- Dispositifs optoélectroniques : Utilisé dans la production de revêtements optiques et de capteurs en raison de l'excellente uniformité du film.
- Laboratoires de recherche : Fournit des performances fiables pour la pulvérisation expérimentale et les études en science des matériaux.
- Revêtements industriels : Convient pour les revêtements avancés dans diverses applications industrielles où un dépôt contrôlé est essentiel.

Emballage des cibles de pulvérisation du phosphore de silicium

Nos cibles de pulvérisation de phosphore de silicium sont méticuleusement emballées pour garantir qu'elles conservent des performances optimales pendant le stockage et le transport. Chaque cible est solidement emballée dans un emballage protecteur exempt de contamination. Des options d'emballage personnalisées sont également disponibles sur demande pour répondre à des exigences spécifiques en matière d'expédition et de manutention.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation de phosphore de silicium, Si-P ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, les dispositifs optoélectroniques et les processus de revêtement industriels.

Q : Comment la pureté de la cible Si-P est-elle maintenue à ≥99% ?
R : La pureté est assurée par des procédures strictes de contrôle de la qualité pendant la production, y compris le traitement en atmosphère contrôlée et des tests rigoureux.

Q : La cible peut-elle être personnalisée en termes de formes et de tailles ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disques ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation de cette cible de pulvérisation ?
R : Les industries telles que les semi-conducteurs, l'optique, les laboratoires de recherche et les revêtements industriels avancés bénéficient considérablement de ses hautes performances.

Q : Comment la cible de pulvérisation silicium-phosphore doit-elle être stockée ?
R : Elle doit être stockée dans un environnement propre, sec et à température contrôlée, idéalement dans son emballage d'origine scellé pour éviter toute contamination.