ST0984 Cible de pulvérisation d'arséniure de germanium et de séléniure, Ge-As-Se

Description de la cible de pulvérisation d'arséniure de germanium et de séléniure de germanium

La cible de pulvérisation de séléniure d'arséniure de germanium, Ge-As-Se, est conçue pour les processus de dépôt de couches minces de haute précision. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible garantit des propriétés matérielles uniformes et des performances fiables dans des conditions exigeantes. Sa composition et son intégrité structurelle la rendent idéale pour les applications dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, le dépôt de revêtements et d'autres processus électroniques avancés. Avec des formes et des tailles personnalisables, ce produit est conçu pour répondre aux exigences spécifiques des applications industrielles modernes.

Applications des cibles de pulvérisation d'arséniure de germanium et de séléniure

- Fabrication de semi-conducteurs : Garantit des couches minces de haute qualité pour les circuits intégrés et la microélectronique.
- Photovoltaïque : utilisé dans la fabrication de cellules solaires où la précision du dépôt est essentielle.
- Revêtement de surface : Fournit des performances constantes dans les revêtements protecteurs et fonctionnels pour les composants électroniques.
- Recherche et développement : Idéal pour les installations expérimentales dans la recherche sur les matériaux avancés.
- Applications industrielles personnalisées : Adaptable aux marchés de niche nécessitant des configurations de cibles de pulvérisation sur mesure.

Emballage des cibles de pulvérisation d'arséniure de germanium et de séléniure

Nos cibles de pulvérisation d'arséniure de germanium sont emballées avec le plus grand soin pour éviter la contamination et les contraintes mécaniques. Chaque cible est scellée sous vide et solidement calée, ce qui garantit qu'elle conserve ses caractéristiques de haute pureté et de performance pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre à des exigences spécifiques en matière de logistique et de manutention.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation d'arséniure de germanium et de séléniure ?
R : Elle est principalement utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs pour le dépôt de couches minces, le revêtement de surface et les applications industrielles spécialisées.

Q : Comment la pureté de ≥99% est-elle maintenue tout au long de la production ?
R : Notre processus de fabrication fait appel à des techniques avancées de purification et de contrôle de la qualité pour garantir le maintien constant de la pureté élevée de la cible de pulvérisation.

Q : Le produit peut-il être personnalisé en termes de forme et de taille ?
R : Oui, la cible de pulvérisation d'arséniure de germanium et de séléniure est disponible sous forme de disque ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelle est la signification du type de liaison "Indium" dans ce produit ?
R : La liaison à l'indium améliore les propriétés thermiques et électriques de l'interface, qui sont cruciales pour maintenir les performances dans les processus de pulvérisation de haute technologie.

Q : Comment la cible de pulvérisation doit-elle être stockée pour garantir des performances optimales ?
R : Elle doit être stockée dans un environnement propre et sec, de préférence dans un emballage scellé sous vide, afin de minimiser l'exposition aux contaminants et à l'humidité.