ST0981 Cible de pulvérisation du tantalate de potassium, KTaO3

Description de la cible de pulvérisation du tantalate de potassium

La cible de pulvérisation de tantalate de potassium, KTaO₃, est fabriquée avec une pureté de ≥99% et est disponible sous forme de disque ou de formes personnalisées pour répondre aux exigences d'applications spécifiques. Conçue pour des applications de pulvérisation avancées, cette cible offre des performances constantes dans le dépôt de films minces de haute qualité sur divers substrats. Elle est idéale pour les dispositifs semi-conducteurs, l'optoélectronique et les applications diélectriques, garantissant une fiabilité même dans des conditions de traitement exigeantes.

Applications des cibles de pulvérisation au tantalate de potassium

- Dépôt de couches minces : Idéal pour créer des couches minces diélectriques et ferroélectriques dans la fabrication de semi-conducteurs.
- Dispositifs à semi-conducteurs : Utilisé dans la fabrication de composants électroniques nécessitant une grande fiabilité.
- Composants optoélectroniques : Convient aux applications dans les capteurs et les dispositifs optiques en raison de ses excellentes propriétés matérielles.
- Recherche et développement : Un choix fiable pour les montages expérimentaux en science des matériaux et les études sur les matériaux avancés.

Emballage des cibles de pulvérisation du tantalate de potassium

Nos cibles de pulvérisation au tantalate de potassium sont emballées selon des directives strictes de contrôle de la qualité afin de garantir qu'elles restent intactes et non contaminées pendant le transport et le stockage. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques des clients, garantissant une livraison sûre pour les applications industrielles et de recherche.

Questions fréquemment posées

Q : Pourquoi le tantalate de potassium (KTaO₃) convient-il aux applications de pulvérisation cathodique ?
R : Sa grande pureté (≥99%) et ses propriétés chimiques stables garantissent des performances de pulvérisation cohérentes, conduisant à un dépôt uniforme de couches minces.

Q : Les formes des cibles de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, les cibles sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure en fonction des exigences spécifiques du client.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement les cibles de pulvérisation du tantalate de potassium ?
R : Elles sont largement utilisées dans la fabrication des semi-conducteurs, l'optoélectronique et les laboratoires de recherche axés sur les applications des matériaux avancés.

Q : Comment le niveau de pureté affecte-t-il les performances de la cible de pulvérisation ?
R : Une pureté plus élevée (≥99%) minimise la contamination, améliorant ainsi la qualité, la cohérence et la performance globale des films déposés.

Q : Existe-t-il des recommandations spécifiques de stockage ou de manipulation pour ces cibles de pulvérisation ?
R : Il est recommandé de stocker les cibles dans un environnement propre et sec, à température contrôlée, et de les manipuler avec précaution pour éviter toute contamination et tout dommage.