ST0971 Cible de pulvérisation de séléniure de germanium, GeSe

Description de la cible de pulvérisation de séléniure de germanium

La cible de pulvérisation de séléniure de germanium, GeSe, est spécialement conçue pour les processus de pulvérisation de haute précision dans l'industrie des semi-conducteurs et des couches minces. Fabriquée avec une pureté de ≥99% et disponible sous forme de disques ou de formes personnalisées, cette cible garantit des performances constantes et des caractéristiques de dépôt fiables pour les applications complexes. Ses propriétés matérielles robustes, notamment un point de fusion de 667 °C et une densité de 5,6 g/cm³, en font un matériau idéal pour les environnements exigeant des performances thermiques et mécaniques stables.

Applications des cibles de pulvérisation de séléniure de germanium

- Dépôt de couches minces : Utilisé pour déposer des films de GeSe de haute qualité dans les dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques.
- Photovoltaïque : appliqué à la fabrication de cellules solaires où les couches de chalcogénure sont essentielles à la conversion de l'énergie.
- Microélectronique : Employé dans les processus qui nécessitent un transfert de matériau précis pour la fabrication de circuits intégrés.
- Recherche et développement : Idéal pour les installations expérimentales et la recherche en science des matériaux nécessitant des cibles de pulvérisation de haute pureté.
- Applications industrielles personnalisées : Convient aux conceptions personnalisées pour les processus de revêtement de couches minces spécialisées.

Emballage des cibles de pulvérisation de séléniure de germanium

Notre cible de pulvérisation de séléniure de germanium est emballée de manière sécurisée afin de préserver son intégrité structurelle et sa pureté. Les options d'emballage standard comprennent des conteneurs scellés sous vide, et des emballages personnalisés sont disponibles sur demande pour garantir un transport et un stockage sûrs.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est un matériau de haute pureté utilisé dans le processus de pulvérisation pour déposer des couches minces sur des substrats par l'éjection d'atomes de matériau sous bombardement ionique.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment des cibles de pulvérisation en séléniure de germanium ?
R : Ces cibles sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, l'optoélectronique, la photovoltaïque et d'autres applications industrielles de pointe nécessitant un dépôt précis de couches minces.

Q : Comment la haute pureté (≥99%) de la cible de séléniure de germanium est-elle assurée ?
R : La haute pureté est maintenue grâce à un contrôle de qualité rigoureux lors de la sélection des matières premières et à des techniques de fabrication avancées pour minimiser les impuretés.

Q : Des formes et des tailles personnalisées sont-elles disponibles pour les cibles de pulvérisation ?
R : Oui, en plus des formes de disques standard, des options sur mesure sont disponibles pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les précautions de stockage et de manipulation recommandées pour ce produit ?
R : Il est recommandé de stocker la cible dans un environnement propre et sec, de préférence dans un emballage sous vide, afin d'éviter toute contamination et de préserver ses propriétés matérielles.