ST0951 Cible de pulvérisation cathodique en cuivre, zinc et étain, CZTS

Description de la cible de pulvérisation de sulfure de cuivre-zinc-étain

La cible de pulvérisation de sulfure de cuivre-zinc-étain, CZTS, est produite avec une pureté de ≥99 % et est disponible sous forme de disque ou de forme personnalisée. Avec un point de fusion de 990 °C et une densité de 4,56 g/cm³, cette cible est conçue pour les processus avancés de pulvérisation et de dépôt de couches minces. Sa composition, Cu₂ZnSnS₄, garantit d'excellentes performances dans les applications exigeant des propriétés matérielles précises et une grande fiabilité. Ce produit convient parfaitement aux semi-conducteurs avancés, aux applications photovoltaïques et aux applications de revêtement.

Applications des cibles de pulvérisation de sulfure de cuivre, zinc et étain

- Dépôt de couches minces : Idéal pour créer des couches minces uniformes dans les applications semi-conductrices et photovoltaïques.
- Dispositifs photovoltaïques : Permet la fabrication de cellules solaires efficaces avec un rendement de conversion élevé.
- Fabrication de semi-conducteurs : Convient au processus de dépôt de dispositifs à semi-conducteurs de haute performance.
- Revêtements : Fournit une couche solide et cohérente pour les revêtements protecteurs et fonctionnels dans le traitement des matériaux avancés.

Emballage des cibles de pulvérisation cathodique de cuivre-zinc-étain

Notre cible de pulvérisation de sulfure de cuivre-zinc-étain est soigneusement emballée pour conserver sa pureté et son intégrité tout au long du stockage et du transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux besoins spécifiques de vos applications.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'application idéale de la cible de pulvérisation cathodique de cuivre-zinc-étain, CZTS ?
R : Elle est idéale pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, la production de cellules photovoltaïques et les applications de revêtement avancées.

Q : Quel est le niveau de pureté de la cible de pulvérisation ?
R : La cible est fabriquée avec une pureté de ≥99%, ce qui garantit des performances constantes et de haute qualité.

Q : Sous quelles formes la cible de pulvérisation peut-elle être fournie ?
R : La cible est disponible sous forme de disque ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre aux exigences d'une application spécifique.

Q : Comment la cible de pulvérisation de sulfure de cuivre, de zinc et d'étain doit-elle être stockée ?
R : Elle doit être stockée dans un environnement propre et sec afin de préserver sa qualité et de garantir des performances optimales lors de son utilisation.

Q : Des tailles personnalisées sont-elles disponibles pour ce produit ?
R : Oui, les tailles disponibles pour la cible de pulvérisation sont entièrement personnalisables pour répondre aux besoins de votre application.