ST0943 Cible de pulvérisation d'antimoniure d'étain, SnSb

Cible de pulvérisation d'antimoniure d'étain Description

La cible de pulvérisation d'antimoniure d'étain, SnSb, est conçue pour offrir des performances supérieures dans les applications de pulvérisation avancées. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible de haute qualité est idéale pour la fabrication de films minces dans les dispositifs semi-conducteurs, les détecteurs IR et les applications de revêtement de précision. Sa composition contrôlée et ses propriétés fiables garantissent des performances impeccables dans les processus de dépôt sous vide. La cible est disponible sous forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre aux exigences d'un système unique, offrant ainsi une grande polyvalence à diverses applications industrielles.

Applications des cibles de pulvérisation d'antimoniure d'étain

- Fabrication de semi-conducteurs : Fabrication de couches minces pour les circuits intégrés et les détecteurs IR.
- Applications de revêtement : Dépôt par pulvérisation pour les revêtements de surface à haute performance dans les technologies de pointe.
- Recherche et développement : Utile dans les environnements de R&D axés sur la science des matériaux et les nanotechnologies.
- Solutions d'ingénierie personnalisées : Adaptées aux exigences industrielles spécifiques pour améliorer les performances de la pulvérisation.

Emballage des cibles de pulvérisation d'antimoniure d'étain

Nos cibles de pulvérisation d'antimoniure d'étain sont méticuleusement emballées pour préserver leur qualité pendant le transport et le stockage. Chaque cible est scellée dans des matériaux antistatiques et résistants à l'humidité, ce qui garantit que le produit conserve son intégrité à l'arrivée. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux spécifications particulières des commandes.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation d'antimoniure d'étain ?
R : Elle est principalement utilisée dans la fabrication de films minces pour les dispositifs semi-conducteurs, les détecteurs IR et d'autres applications de haute technologie nécessitant des processus de pulvérisation précis.

Q : En quoi un niveau de pureté de ≥99% est-il bénéfique pour les processus de pulvérisation ?
R : Une pureté élevée minimise la contamination pendant le dépôt, ce qui permet d'obtenir une qualité de film supérieure et d'améliorer les performances du produit final.

Q : Sous quelles formes la cible de pulvérisation est-elle disponible ?
R : La cible est disponible sous forme de disque standard et peut également être fabriquée sur mesure pour répondre à des besoins spécifiques.

Q : Quelles sont les précautions à prendre lors de la manipulation des cibles de pulvérisation ?
R : Il est important de manipuler les cibles avec des outils antistatiques et de les stocker dans des environnements où l'humidité et la température sont stables afin de préserver leur qualité.

Q : Comment la liaison à l'indium affecte-t-elle les performances de la cible de pulvérisation ?
R : La liaison à l'indium permet d'assurer une conduction thermique et électrique efficace pendant le processus de pulvérisation, ce qui contribue à la stabilité et aux performances globales de la cible.