ST0940 Cible de pulvérisation d'antimoniure d'aluminium, AlSb

Description de la cible de pulvérisation d'antimoniure d'aluminium

La cible de pulvérisation d'antimoniure d'aluminium, AlSb, est conçue pour le dépôt de couches minces de précision dans des applications technologiques avancées. Produite à partir d'AlSb de haute pureté (≥99%), elle offre des performances supérieures en termes de cohérence et de fiabilité. Cette cible de pulvérisation est conçue pour répondre aux exigences rigoureuses des industries des semi-conducteurs et de l'optoélectronique, en garantissant une excellente uniformité et adhérence du film. Sa liaison à l'indium améliore encore la stabilité électrique et thermique pendant le processus de dépôt, ce qui en fait un choix idéal pour la fabrication critique de haute technologie.

Applications des cibles de pulvérisation d'antimoniure d'aluminium

- Dépôt de couches minces : Utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et de circuits intégrés.
- Dispositifs optoélectroniques : Idéal pour les photodétecteurs, les diodes électroluminescentes et autres technologies sensibles à la lumière.
- Microélectronique avancée : Essentiel pour la pulvérisation de haute précision dans la fabrication de composants microélectroniques.
- Recherche et développement : Employé dans la recherche de pointe en science des matériaux et dans le développement de prototypes.
- Technologie d'affichage : Appliquée à la production d'écrans haute résolution et de réseaux de capteurs.

Emballage des cibles de pulvérisation d'antimoniure d'aluminium

Notre cible de pulvérisation d'antimoniure d'aluminium est emballée selon des normes de contrôle de qualité strictes afin de préserver son état impeccable. Elle est généralement scellée sous vide dans un emballage spécialisé afin d'éviter toute contamination et tout dommage physique pendant le transport. Elle est disponible dans des tailles personnalisées en fonction des besoins du client.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les applications les mieux adaptées à la cible de pulvérisation d'antimoniure d'aluminium ?
R : Elle est idéalement utilisée dans les processus de dépôt de couches minces pour les semi-conducteurs, l'optoélectronique, la microélectronique avancée et les écrans à haute résolution.

Q : Comment la pureté élevée (≥99%) de l'AlSb favorise-t-elle ses performances ?
R : La pureté élevée garantit une excellente uniformité de dépôt, minimise les impuretés dans le film final et améliore les performances globales de l'appareil.

Q : Quel est le rôle de l'indium dans le collage de cette cible de pulvérisation ?
R : La liaison à l'indium assure une conductivité électrique et thermique supérieure, garantissant un fonctionnement stable pendant les processus de pulvérisation.

Q : La cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée en termes de forme et de taille ?
R : Oui, la cible de pulvérisation d'antimoniure d'aluminium est disponible sous forme de disques ou de formes personnalisées pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment la cible de pulvérisation d'antimoniure d'aluminium ?
R : Elle est largement utilisée dans les secteurs des semi-conducteurs, de l'optoélectronique, de la microélectronique avancée et des technologies d'affichage.