ST0935 Cible de pulvérisation de triséléniure d'arsenic, As2Se3

Cible de pulvérisation de triséléniure d'arsenic Description

La cible de pulvérisation de triséléniure d'arsenic, As2Se3, est conçue pour la précision dans les applications industrielles de pointe. Fabriquée pour atteindre une pureté de ≥99%, cette cible est disponible sous forme de disque ou dans des tailles personnalisées pour répondre à des besoins de fabrication spécifiques. Sa composition unique et son traitement contrôlé garantissent une excellente stabilité et d'excellentes performances pendant les processus de pulvérisation. Cette cible est particulièrement adaptée aux applications de dépôt de couches minces, d'optique infrarouge et de fabrication de dispositifs semi-conducteurs, où l'intégrité et la cohérence des matériaux sont primordiales.

Applications des cibles de pulvérisation d'arsenic triséléniure

- Dépôt de couches minces : Idéal pour produire des films de semi-conducteurs uniformes dans la fabrication de dispositifs.
- Photonique : Utilisée dans la production de verres de chalcogénure pour les composants optiques infrarouges.
- Optique infrarouge : Sert de matériau de base pour les éléments de transmission et les capteurs infrarouges.
- Fabrication de semi-conducteurs : Fournit des films de haute pureté essentiels au traitement des circuits intégrés et des dispositifs microélectroniques.

Conditionnement des cibles de pulvérisation d'arsenic triséléniure

Nos cibles de pulvérisation au triséléniure d'arsenic sont soigneusement emballées afin de préserver l'intégrité du produit et d'éviter toute contamination pendant le transport. Les options d'emballage comprennent des conteneurs scellés sous vide et des solutions d'emballage personnalisées basées sur les exigences du client.

Questions fréquemment posées

Q : Quels sont les facteurs qui contribuent à la haute performance de la cible de pulvérisation As₂Se₃ ?
R : La pureté élevée (≥99%) et les processus de fabrication contrôlés garantissent des propriétés matérielles constantes et des performances fiables dans les applications de pulvérisation.

Q : La forme et la taille de la cible peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, outre les formes de disques standard, nos cibles de pulvérisation peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques en matière de conception et de fonctionnement.

Q : Quelles sont les applications qui conviennent le mieux à la cible de pulvérisation As₂Se₃ ?
R : Elle est idéale pour le dépôt de couches minces, la photonique, l'optique infrarouge et la fabrication de semi-conducteurs où des caractéristiques matérielles précises et stables sont essentielles.

Q : Comment la cible de pulvérisation doit-elle être manipulée et stockée ?
R : La cible doit être manipulée avec soin à l'aide d'outils propres appropriés et stockée dans un environnement contrôlé pour éviter la contamination et l'absorption d'humidité.

Q : Une assistance technique est-elle disponible pour l'intégration de cette cible de pulvérisation dans les processus existants ?
R : Oui, notre équipe d'assistance technique est disponible pour aider à l'intégration du produit, à l'optimisation du processus et à toute autre question visant à garantir des performances optimales.