ST0934 Cible de pulvérisation cathodique en triséléniure d'antimoine, Sb2Se3

Description de la cible de pulvérisation de triséléniure d'antimoine

La cible de pulvérisation de triséléniure d'antimoine, Sb2Se3, est conçue pour des applications de haute performance dans le dépôt de couches minces et la fabrication de semi-conducteurs. Fabriquée avec le souci de maintenir une pureté supérieure (≥99%) et une conception personnalisable, la cible est disponible sous forme de disque ou de formes sur mesure. Avec un point de fusion de 611 °C et une densité de 5,843 g/cm³, elle offre des performances fiables pour des processus de pulvérisation précis. Sa liaison avec l'indium garantit la stabilité pendant la fabrication des dispositifs, ce qui en fait un excellent choix pour les applications industrielles de pointe.

Applications des cibles de pulvérisation de triséléniure d'antimoine

- Fabrication de dispositifs semi-conducteurs : Idéale pour la formation de couches minces en optoélectronique et dans les cellules photovoltaïques.
- Dépôt de couches minces : Utilisé dans les processus de pulvérisation pour déposer des couches uniformes sur des substrats afin d'améliorer les performances des dispositifs.
- Recherche et développement : Sert de matériau de précision dans les études sur les matériaux avancés et le développement de prototypes.
- Applications industrielles personnalisées : Répond à des exigences particulières avec des formes et des tailles personnalisées pour répondre à des besoins de production uniques.

Emballage des cibles de pulvérisation du triséléniure d'antimoine

Les cibles sont soigneusement emballées pour préserver leur intégrité et leurs performances. Les produits sont scellés sous vide pour éviter la contamination et les dommages physiques, ce qui garantit qu'ils arrivent dans des conditions optimales pour une utilisation immédiate.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation de triséléniure d'antimoine ?
R : Elle est principalement utilisée dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, le dépôt de couches minces et la recherche avancée, où une grande pureté et des performances constantes sont essentielles.

Q : Comment le niveau de pureté (≥99%) profite-t-il aux processus de pulvérisation ?
R : Un niveau de pureté élevé garantit une contamination minimale pendant la pulvérisation, ce qui conduit à un dépôt de film uniforme et à une meilleure performance du produit final.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, outre les formes de disques standard, la cible peut être personnalisée pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles industries peuvent bénéficier de l'utilisation de cibles de pulvérisation Sb2Se3 ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la photovoltaïque, l'optoélectronique et la recherche sur les matériaux avancés bénéficient de ces cibles de haute performance.

Q : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour préserver la qualité de la cible de pulvérisation ?
R : Il est recommandé de stocker les cibles dans un environnement propre et sec, avec des conditions de température contrôlées et des pratiques de manipulation appropriées afin d'éviter toute contamination ou dommage.