ST0930 Cible de pulvérisation de dioxyde de tellurium, TeO2

Description de la cible de pulvérisation de dioxyde de tellurium

La cible de pulvérisation de dioxyde de tellure, TeO2, est développée à l'aide d'une technologie de pointe pour produire des cibles de haute pureté et de haute performance pour les applications de pulvérisation. Elle est spécialement conçue pour les processus avancés de dépôt de couches minces, garantissant une efficacité et une uniformité excellentes au cours de la procédure de revêtement. Avec un point de fusion de 733 °C et une densité de 5,67 g/cm³, cette cible permet des opérations de pulvérisation stables et des performances fiables dans la production de films de haute qualité. Ses formes personnalisables, y compris les disques ou les modèles spécialement conçus, lui permettent de s'adapter à diverses exigences industrielles.

Applications des cibles de pulvérisation de dioxyde de tellurium

- Dépôt de couches minces: Idéal pour le dépôt de films uniformes et de haute qualité dans les applications de semi-conducteurs, d'optique et de capteurs.

- Technologies de revêtement: Largement utilisées dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour produire des revêtements durables et résistants à la corrosion.

- Électronique avancée: Convient aux applications dans le domaine de la microélectronique et des circuits intégrés en raison de ses propriétés matérielles précises.

- Rechercheet développement : Il s'agit d'un matériau clé dans les laboratoires d'innovation axés sur les nouvelles technologies de revêtement et la science des matériaux.

Emballage des cibles de pulvérisation du dioxyde de tellurium

Nos cibles de pulvérisation de dioxyde de tellurium sont emballées avec le plus grand soin afin de conserver leur état impeccable pendant le stockage et le transport. Chaque unité est emballée en toute sécurité dans des conteneurs remplis de gaz inerte et résistants à l'humidité afin d'éviter l'oxydation et de garantir une qualité constante lors de la livraison.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation de dioxyde de tellure, TeO₂ ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces, les technologies de revêtement et la fabrication de produits électroniques avancés, garantissant une formation de film de haute qualité et des performances constantes.

Q : Comment la pureté de ≥99% affecte-t-elle la performance de cette cible de pulvérisation ?
R : Une pureté de ≥99% minimise les impuretés qui peuvent affecter l'uniformité du film et les propriétés électriques, ce qui permet d'améliorer les performances et la fiabilité des applications finales.

Q : La forme de la cible peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible de pulvérisation de dioxyde de tellure est disponible sous forme de disques ou peut être fabriquée sur mesure pour s'adapter aux exigences spécifiques de l'équipement.

Q : Quelles sont les mesures prises pour garantir la stabilité du matériau pendant les processus de pulvérisation ?
R : La cible est conçue et emballée de manière à préserver son intégrité chimique et physique, ce qui garantit des performances de pulvérisation stables avec une contamination minimale.

Q : L'installation ou l'utilisation de cette cible de pulvérisation nécessite-t-elle une manipulation particulière ?
R : Les procédures de manipulation standard en salle blanche sont recommandées pour éviter la contamination et garantir que la cible conserve sa grande pureté et ses performances tout au long de son cycle de vie.