ST0929 Cible de pulvérisation cryolithe, Na3-AlF6

Cible de pulvérisation Cryolite Description

La cible de pulvérisation Cryolite, Na3-AlF6, est méticuleusement fabriquée pour offrir des performances élevées dans diverses applications industrielles de pointe. S'appuyant sur des techniques de production de pointe, la cible offre une pureté et une stabilité exceptionnelles, garantissant des performances optimales lors des processus de pulvérisation et de dépôt de couches minces. Son point de fusion élevé et sa densité adaptée en font un excellent choix pour les applications nécessitant une résistance chimique robuste et des propriétés matérielles précises.

Applications des cibles de pulvérisation Cryolite

- Dépôt de couches minces: Parfait pour le dépôt de films de haute qualité dans la fabrication de semi-conducteurs et de dispositifs optoélectroniques.

- Revêtements optiques: Utilisés dans la production de revêtements réfléchissants ou antireflets pour les systèmes optiques avancés.

- Composants électroniques: Utilisés dans la fabrication de composants qui exigent une grande cohérence et une grande fiabilité.

- Modification de surface: Idéal pour améliorer les propriétés de surface, telles que la dureté et la résistance à la corrosion, dans divers outils industriels.

- Rechercheet développement : Fournit une plate-forme matérielle cohérente pour le développement de technologies de revêtement innovantes.

Emballage des cibles de pulvérisation cryolithe

Nos cibles de pulvérisation cryolithe sont soigneusement conçues et emballées dans le cadre de contrôles de qualité stricts afin de préserver leur intégrité pendant le stockage et le transport. Des solutions d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques de l'industrie. Pour les commandes standard, le produit est scellé sous vide pour garantir une protection maximale contre la contamination et les facteurs environnementaux.

Questions fréquemment posées

Q : À quoi sert la cryolite dans les cibles de pulvérisation ?
R : En raison de sa composition chimique et de ses propriétés uniques, la cryolithe est utilisée dans les cibles de pulvérisation pour obtenir des couches minces et des revêtements de haute qualité dans les applications de semi-conducteurs et d'optique.

Q : Comment la pureté de la cible de pulvérisation Cryolite est-elle assurée ?
R : Le produit est soumis à des processus rigoureux de contrôle de la qualité et à des techniques de purification pendant la fabrication afin de garantir un niveau de pureté de ≥99%.

Q : La forme de la cible de pulvérisation cryolithe peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disque standard ou peut être personnalisée pour répondre aux exigences d'une application spécifique.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation de la cible de pulvérisation Cryolite ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, le revêtement optique, l'électronique et la recherche sur les matériaux avancés bénéficient grandement de cette cible de haute pureté.

Q : Comment la cible de pulvérisation cryolithe doit-elle être stockée pour conserver sa qualité ?
R : Elle doit être stockée dans un environnement propre et sec, dans un emballage scellé sous vide, afin d'éviter la contamination et la dégradation de ses propriétés.