ST0927 Cible de pulvérisation de fluorure de potassium, KF

Cible de pulvérisation de fluorure de potassium Description

La cible de pulvérisation de fluorure de potassium KF est fabriquée avec une pureté et une constance exceptionnelles, garantissant des performances fiables dans les applications de pulvérisation et de dépôt de couches minces. Son point de fusion élevé et sa densité contrôlée permettent un traitement efficace dans les techniques de fabrication avancées. Ce produit est parfaitement adapté aux industries qui exigent des performances stables et constantes des matériaux, notamment l'électronique, l'optique et la fabrication de semi-conducteurs.

Applications des cibles de pulvérisation de fluorure de potassium

- Dépôt de couches minces : Idéal pour les applications de revêtement des semi-conducteurs, de l'optique et de l'électronique.
- Fabrication électronique : Permet la production de composants électroniques de haute qualité avec une excellente uniformité du film.
- Revêtements de surface : Appliqués à la création de revêtements protecteurs et fonctionnels dans divers contextes industriels.
- Recherche et développement : Ce matériau est fiable pour les montages expérimentaux et le développement de prototypes dans le domaine de la science des matériaux avancés.

Emballage des cibles de pulvérisation de fluorure de potassium

Nos cibles de pulvérisation de fluorure de potassium sont soigneusement emballées pour garantir l'intégrité du produit pendant le transport et le stockage. Les options d'emballage sont personnalisées en fonction des exigences spécifiques du client et comprennent généralement un emballage scellé sous vide pour préserver la pureté du matériau et empêcher l'absorption d'humidité.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'application principale de la cible de pulvérisation de fluorure de potassium KF ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans les industries des semi-conducteurs, de l'optique et du revêtement électronique.

Q : Comment la haute pureté (≥99%) du KF profite-t-elle aux applications de pulvérisation ?
R : La pureté élevée garantit un comportement de pulvérisation cohérent, une contamination minimale et une qualité de film supérieure pendant le processus de dépôt.

Q : Les formes des cibles de pulvérisation de fluorure de potassium peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, les cibles peuvent être personnalisées pour répondre à des exigences de conception et à des besoins d'application spécifiques.

Q : Quelle est l'importance de la liaison indium dans les performances de cette cible de pulvérisation ?
R : La liaison à l'indium facilite une excellente conductivité thermique et électrique, ce qui est essentiel pour obtenir une pulvérisation uniforme et une dissipation efficace de la chaleur.

Q : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour la cible de pulvérisation de fluorure de potassium ?
R : Elle doit être stockée dans un endroit frais et sec, dans un emballage scellé sous vide, afin de préserver sa pureté et d'éviter l'absorption d'humidité.