ST0914 Cible de pulvérisation d'oxyde de lithium et de nickel, LiNiO2

Description de la cible de pulvérisation d'oxyde de lithium et de nickel

La cible de pulvérisation de l'oxyde de lithium et de nickel, LiNiO2, est conçue pour répondre aux exigences rigoureuses des technologies modernes de dépôt de couches minces. Fabriquée avec une pureté de ≥99% et offrant des formes et des tailles personnalisables, cette cible garantit des performances constantes dans les applications de haute précision. Sa composition robuste et son point de fusion élevé la rendent adaptée aux environnements qui exigent des processus de pulvérisation stables et fiables, améliorant ainsi les performances des dispositifs dans les secteurs critiques.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de lithium et de nickel

- Fabrication de semi-conducteurs : Idéal pour le dépôt de couches minces dans les circuits électroniques et les microdispositifs.
- Batteries à couche mince : Utilisées dans la production de systèmes de stockage d'énergie avancés où la performance et la durabilité sont essentielles.
- Écrans électroniques : Prend en charge les processus de revêtement dans les écrans à haute résolution et les applications de capteurs.
- Technologies de revêtement : Utilisées en ingénierie de surface pour améliorer la résistance à l'usure et la conductivité électrique des composants industriels.

Emballage des cibles de pulvérisation d'oxyde de lithium et de nickel

Nos cibles de pulvérisation d'oxyde de lithium et de nickel sont conditionnées dans des conditions contrôlées afin de préserver leur pureté et leurs performances.
- Emballage standard : Conteneurs scellés sous vide garantissant une contamination minimale.
- Emballage personnalisé : Disponible en fonction des exigences spécifiques du client pour garantir l'intégrité du produit pendant le transport et le stockage.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation d'oxyde de lithium et de nickel ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, la production de batteries à couches minces, les écrans électroniques et les processus de revêtement avancés.

Q : Comment la pureté élevée de ≥99 % est-elle maintenue pendant la production ?
R : Notre processus de fabrication intègre des techniques de purification de pointe et un contrôle de qualité rigoureux, ce qui garantit que chaque cible répond à la norme de pureté élevée.

Q : Les cibles peuvent-elles être adaptées à des tailles et des formes spécifiques ?
R : Oui, la cible de pulvérisation d'oxyde de lithium et de nickel est disponible sous forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre aux exigences d'une application particulière.

Q : Pourquoi choisit-on l'oxyde de lithium et de nickel pour les cibles de pulvérisation ?
R : L'oxyde de lithium et de nickel offre une excellente stabilité thermique et des performances dans des conditions de haute température, ce qui le rend très approprié pour les processus avancés de dépôt de couches minces.

Q : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour ces cibles de pulvérisation ?
R : Il est recommandé de stocker les cibles dans un environnement contrôlé et sec et d'utiliser un emballage sous vide pour éviter toute contamination et préserver l'intégrité du produit.