ST0910 Cibles de pulvérisation de sulfure de cuivre(I), Cu2S

Description des cibles de pulvérisation de sulfure de cuivre(I)

Les cibles de pulvérisation de sulfure de cuivre(I), Cu2S, sont conçues à partir de Cu₂S de haute pureté pour offrir des performances exceptionnelles dans les applications de pulvérisation. Notre processus de fabrication de pointe garantit la cohérence et la fiabilité, ce qui rend ces cibles idéales pour le dépôt de couches minces avancées. Notre processus de fabrication de pointe garantit la cohérence et la fiabilité, ce qui rend ces cibles idéales pour le dépôt de couches minces avancées. Elles présentent une excellente conductivité électrique et une stabilité thermique, ce qui est essentiel pour les applications industrielles exigeantes. Ce produit est parfaitement adapté à la fabrication électronique, à la production de cellules photovoltaïques et à d'autres applications de haute technologie exigeant précision et durabilité.

Applications des cibles de pulvérisation de sulfure de cuivre(I)

- Électronique : Essentielle pour une pulvérisation haute performance dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
- Photovoltaïque : utilisé dans le dépôt de couches absorbantes dans les cellules solaires pour améliorer l'efficacité de la conversion de l'énergie.
- Revêtements de surface : Idéal pour le développement de couches minces avancées dans l'industrie et la recherche.
- Recherche et développement : Fournit un matériau fiable pour l'exploration de nouvelles technologies de pulvérisation et de couches minces.

Emballage des cibles de sulfure de cuivre(I)

Nos cibles de pulvérisation de sulfure de cuivre(I), Cu2S, sont soigneusement emballées pour garantir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage standard sont disponibles, avec possibilité de personnalisation sur demande pour répondre aux exigences spécifiques du projet.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les applications qui conviennent le mieux aux cibles de pulvérisation de sulfure de cuivre(I) ?
R : Elles sont largement utilisées dans la fabrication électronique, la production de cellules photovoltaïques, les revêtements de surface et les applications de recherche avancée.

Q : Dans quelles formes les cibles de pulvérisation peuvent-elles être produites ?
R : Les cibles sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre à des exigences de conception spécifiques.

Q : Quel est le niveau de pureté de ces cibles ?
R : Les cibles sont produites avec un niveau de pureté de ≥99%, ce qui garantit des performances élevées et des résultats cohérents.

Q : La taille des cibles de pulvérisation de sulfure de cuivre(I) peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, des tailles personnalisées sont disponibles pour répondre à diverses applications industrielles.

Q : Quel est le point de fusion du matériau utilisé dans ces cibles ?
R : Le matériau a un point de fusion de 1100 °C, ce qui garantit une excellente stabilité thermique pendant le fonctionnement.