ST0900 Cible de pulvérisation cathodique en alliage chrome-cobalt-nickel à haute entropie (HEA), Co/Cr/Ni

Cible de pulvérisation pour alliage chrome-cobalt-nickel à haute entropie (HEA) Description

La cible de pulvérisation de l'alliage chrome-cobalt-nickel à haute entropie (HEA), Co/Cr/Ni, est un matériau de pointe conçu pour répondre aux exigences rigoureuses des techniques modernes de dépôt de couches minces. Développée en mettant l'accent sur une pureté et une uniformité exceptionnelles, cette cible de pulvérisation convient parfaitement aux applications nécessitant des revêtements précis et performants. Sa composition unique en alliage à haute entropie garantit une stabilité et une longévité accrues, ce qui en fait un excellent choix pour les processus industriels avancés.

Applications de la cible de pulvérisation cathodique en alliage chrome-cobalt-nickel à haute entropie (HEA)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour diverses applications de pulvérisation dans la fabrication de semi-conducteurs et les revêtements optiques.
- Revêtements avancés : Convient aux revêtements décoratifs et protecteurs des produits industriels et de consommation.
- Recherche et développement : Utilisé dans la recherche sur les matériaux lorsque des cibles de pulvérisation haute performance et reproductibles sont nécessaires.
- Applications industrielles personnalisées : Adaptables aux processus de pulvérisation spécialisés dans les secteurs de l'électronique, de l'automobile et de l'énergie.

Conditionnement des cibles de pulvérisation cathodique en alliage chrome-cobalt-nickel à haute entropie (HEA)

Nos cibles de pulvérisation sont emballées conformément à des normes strictes de contrôle de la qualité afin de garantir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Les options d'emballage sont personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques des clients, chaque cible étant protégée en toute sécurité pour garantir des performances optimales à l'arrivée.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de cette cible de pulvérisation ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques avancés et divers procédés de pulvérisation industrielle.

Q : Comment la composition de l'alliage à haute entropie améliore-t-elle les performances de pulvérisation ?
R : La composition de l'alliage à haute entropie offre une stabilité, une uniformité et une résistance à la dégradation accrues, ce qui se traduit par une qualité de film plus constante pendant le dépôt.

Q : Des formes et des tailles personnalisées sont-elles disponibles pour ce produit ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure en fonction des exigences spécifiques de l'application.

Q : Qu'est-ce qu'une pureté de ≥99% indique pour ce produit ?
R : Une pureté de ≥99% garantit que le matériau contient un minimum d'impuretés, ce qui est crucial pour obtenir des films pulvérisés fiables et de haute qualité.

Q : Comment les cibles de pulvérisation doivent-elles être emballées pour garantir leur qualité à la livraison ?
R : Les cibles sont emballées selon des mesures strictes de contrôle de la qualité, généralement à l'aide d'emballages personnalisés et sécurisés afin d'éviter les dommages et de préserver l'intégrité du matériau pendant le transport.