ST0894 Cible de pulvérisation du titanate de calcium, CaTiO3

Description de la cible de pulvérisation du titanate de calcium

La cible de pulvérisation de titanate de calcium, CaTiO3, est conçue pour offrir des performances exceptionnelles dans les applications de pulvérisation RF et DC. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible est disponible sous forme de disques ou de formes personnalisées pour répondre à divers besoins industriels. Sa composition robuste garantit des performances de pulvérisation stables, ce qui en fait un choix idéal pour le dépôt de couches minces, la microélectronique et les technologies de revêtement avancées. S'appuyant sur des techniques de fabrication de pointe, nos cibles de pulvérisation offrent une grande fiabilité et des performances constantes dans des environnements opérationnels difficiles.

Applications des cibles de pulvérisation du titanate de calcium

- Dépôt de couches minces : Parfait pour la fabrication de composants microélectroniques et de revêtements optiques.
- Traitement des semi-conducteurs : Utilisé pour le dépôt de couches diélectriques et conductrices.
- Technologies d'affichage : Idéal pour les applications dans les écrans plats et les cellules solaires.
- Applications de revêtement : Fournit des revêtements de haute qualité pour divers outils et composants industriels.
- Recherche et développement : Convient aux installations expérimentales et aux études de matériaux innovants.

Emballage des cibles de pulvérisation du titanate de calcium

Nos cibles de pulvérisation de titanate de calcium sont emballées avec le plus grand soin afin de garantir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Chaque cible est scellée sous vide et emballée de manière sécurisée afin de préserver son état impeccable. Elles sont disponibles dans des tailles adaptées à vos besoins spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est une source de matériau utilisée dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour déposer des couches minces sur des substrats par la technique de pulvérisation.

Q : Quelles méthodes de pulvérisation peuvent être utilisées avec cette cible ?
R : Cette cible est compatible avec les méthodes de pulvérisation RF et DC, ce qui permet une grande polyvalence dans les applications de dépôt de couches minces.

Q : Comment la pureté de la cible de titanate de calcium affecte-t-elle ses performances ?
R : Une pureté élevée (≥99%) garantit une contamination minimale pendant le dépôt, ce qui permet d'obtenir une qualité de film supérieure et des performances constantes pour les applications avancées.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement des cibles de pulvérisation de titanate de calcium ?
R : Les industries telles que la microélectronique, la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et la technologie d'affichage utilisent couramment ces cibles de pulvérisation.

Q : Est-il possible d'obtenir des tailles personnalisées pour les cibles de pulvérisation du titanate de calcium ?
R : Oui, les cibles sont disponibles dans des formes personnalisées pour répondre à des exigences spécifiques en matière de taille et d'application, assurant ainsi une intégration optimale dans votre processus de production.