ST0885 Cible de pulvérisation d'oxyde d'indium dopé au tungstène, IWO

Cible de pulvérisation d'oxyde d'indium dopé au tungstène, IWO Description

La cible de pulvérisation d'oxyde d'indium dopé au tungstène, IWO, est conçue pour les techniques de dépôt avancées, offrant une grande pureté et des configurations personnalisables. Fabriquée avec un mélange précis d'In2O3 et de WO3, cette cible présente une excellente stabilité thermique ainsi que de solides propriétés de liaison, ce qui la rend idéale pour les systèmes de pulvérisation exigeants.

Conçue pour répondre aux exigences rigoureuses des processus de fabrication de semi-conducteurs et de revêtement de couches minces, la cible conserve un point de fusion élevé et une densité constante pour des performances supérieures. Ses formes personnalisables permettent en outre de trouver des solutions sur mesure pour une grande variété d'applications industrielles.

Cible de pulvérisation d'oxyde d'indium dopé au tungstène, IWO Applications

- Dépôt de semi-conducteurs : Idéal pour les applications de couches minces de haute qualité dans la fabrication de dispositifs.
- Technologie d'affichage : Convient à la production de couches d'oxyde conductrices uniformes dans les écrans plats.
- Photovoltaïque : Améliore la performance et l'efficacité des cellules solaires grâce à des applications de revêtement précises.
- Revêtements industriels : Fournit des propriétés de surface améliorées pour les couches protectrices et fonctionnelles dans diverses machines.

Cible de pulvérisation d'oxyde d'indium dopé au tungstène, emballage IWO

Nos cibles de pulvérisation sont emballées en toute sécurité à l'aide de solutions d'emballage personnalisées afin de garantir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Les options comprennent des conteneurs spécialement conçus et des matériaux d'emballage protecteurs pour maintenir la propreté et prévenir la contamination.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement des cibles de pulvérisation d'oxyde d'indium dopé au tungstène ?
R : Elles sont couramment utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, la technologie d'affichage, les applications photovoltaïques et les processus de revêtement industriel.

Q : Comment la pureté ≥99% de la cible est-elle assurée ?
R : La cible est soumise à un contrôle de qualité rigoureux faisant appel à des techniques de purification avancées et à des tests complets au cours de la production.

Q : Puis-je personnaliser la forme de la cible de pulvérisation ?
R : Oui, le produit est disponible sous forme de disques standard ou peut être fabriqué sur mesure pour répondre à des besoins spécifiques.

Q : Quels sont les avantages du dopage au tungstène dans cette cible de pulvérisation ?
R : Le dopage au tungstène améliore la conductivité électrique, la stabilité thermique et la durabilité globale, ce qui garantit des performances supérieures.

Q : Existe-t-il des exigences particulières en matière de stockage pour ce produit ?
R : Les cibles doivent être stockées dans un environnement propre et sec, avec une exposition minimale aux contaminants, afin de maintenir des performances optimales.