ST0884 Cibles de pulvérisation de silicium (Si), non dopées

Cibles de pulvérisation de silicium (Si) Description

Les cibles de pulvérisation de silicium (Si) non dopé sont des cibles spécialisées de haute pureté développées pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, le dépôt de couches minces et d'autres applications de matériaux avancés. Utilisant des techniques de production de pointe, ces cibles de pulvérisation garantissent des performances constantes, une excellente homogénéité et une stabilité mécanique fiable. Leur nature non dopée garantit une interférence minimale pendant le processus de dépôt, ce qui en fait un choix idéal pour une gamme d'applications de haute technologie.

Applications des cibles de pulvérisation de silicium (Si)

- Fabrication de dispositifs semi-conducteurs : Indispensable pour créer des composants électroniques de haute performance.
- Dépôt de couches minces : Idéal pour produire des films de précision pour les cellules solaires et les revêtements optiques.
- Recherche et développement : Largement utilisé dans les études de science des matériaux et les applications de recherche avancée.
- MEMS et capteurs : Permet la fabrication de systèmes micro-électromécaniques et de capteurs.
- Revêtements industriels : Appliqués dans divers processus de revêtement pour améliorer les propriétés de la surface.

Emballage des cibles de pulvérisation du silicium (Si)

Nos cibles de pulvérisation de silicium (Si) sont emballées avec le plus grand soin afin de préserver leur qualité et leur intégrité. Elles sont livrées dans un emballage scellé sous vide conçu pour les protéger de la contamination et des facteurs environnementaux. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles en fonction des besoins du client afin de garantir un transport et un stockage sûrs.

Questions fréquemment posées

Q : Pour quelles applications ces cibles de pulvérisation de silicium sont-elles le mieux adaptées ?
R : Elles sont principalement utilisées dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, le dépôt de couches minces pour les cellules solaires et les revêtements optiques, ainsi que dans la recherche avancée et la fabrication de MEMS.

Q : Comment la pureté du silicium est-elle maintenue pendant la production ?
R : Nous utilisons des procédés de purification et de fabrication de pointe qui garantissent un niveau de pureté de ≥99%, réduisant ainsi les impuretés et améliorant les performances.

Q : La forme des cibles de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, en plus des formes de disques standard, nos cibles de pulvérisation du silicium peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre à des dimensions et à des exigences spécifiques.

Q : Quelles sont les précautions à prendre lors de la manipulation de ces cibles ?
R : Il est recommandé de manipuler les cibles avec soin, en utilisant des outils propres et en portant des gants, tout en les stockant dans un environnement propre et sec dans leur emballage sous vide.

Q : Ces cibles conviennent-elles aux applications à haute température ?
R : Oui, avec un point de fusion de 1414 °C et une excellente stabilité thermique, elles sont conçues pour fonctionner efficacement dans des conditions de haute température.