ST0882 Cibles de pulvérisation d'oxyde de gallium, Ga2O3

Cibles de pulvérisation d'oxyde de gallium Description

Les cibles de pulvérisation d'oxyde de gallium, Ga2O3, sont fabriquées avec une attention méticuleuse à la qualité et à la performance. Conçues pour une excellente fiabilité, les cibles Ga₂O₃ résistent à des conditions rigoureuses, ce qui en fait un choix idéal pour le dépôt de couches minces de haute précision dans la fabrication de semi-conducteurs, l'optoélectronique et d'autres secteurs technologiques avancés. Sa combinaison unique d'un point de fusion élevé et d'une densité spécifique garantit une stabilité thermique supérieure et des performances chimiques fiables.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de gallium

- Fabrication de semi-conducteurs : Essentiel pour les processus de dépôt de couches minces dans les dispositifs modernes à semi-conducteurs.
- Optoélectronique : Utilisées dans la production de DEL, de diodes laser et d'autres composants optiques.
- Revêtements de surface : Idéal pour produire des revêtements uniformes de haute qualité dans les applications industrielles de pointe.
- Recherche et développement : Utilisé dans les laboratoires pour les études sur la science des matériaux et l'innovation de nouvelles technologies.

Emballage des cibles de pulvérisation d'oxyde de gallium

Nos cibles de pulvérisation d'oxyde de gallium sont emballées de manière sécurisée afin de garantir l'intégrité optimale du produit pendant la manipulation et l'expédition. Les options d'emballage standard comprennent des conteneurs scellés sous vide conçus pour préserver une pureté et des performances élevées, disponibles dans différentes tailles pour répondre aux besoins des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de gallium ?
R : Elles sont principalement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, l'optoélectronique, les revêtements de surface et la recherche sur les matériaux avancés.

Q : Comment le point de fusion élevé du Ga₂O₃ favorise-t-il ses performances ?
R : Le point de fusion élevé garantit la stabilité thermique pendant les processus de dépôt à haute énergie, ce qui améliore la qualité et la durabilité des films.

Q : Les cibles de pulvérisation d'oxyde de gallium peuvent-elles être fabriquées sur mesure pour répondre à des exigences industrielles spécifiques ?
R : Oui, elles peuvent être produites sous forme de disques ou personnalisées pour obtenir des formes et des tailles précises en fonction des spécifications du client.

Q : Quelles sont les mesures d'assurance qualité mises en place pour ces cibles ?
R : Les cibles sont fabriquées avec un niveau de pureté de ≥99 % et sont soumises à des procédures rigoureuses de contrôle de la qualité afin de garantir leur conformité aux normes industrielles.

Q : Comment les cibles de pulvérisation d'oxyde de gallium doivent-elles être stockées pour préserver leur qualité ?
R : Elles doivent être stockées dans un environnement propre et sec, avec une exposition minimale aux contaminants, de préférence dans leur emballage sous vide.