ST0880 Cible de pulvérisation cathodique en zirconate de lithium et de lanthane dopé au tantale (LLZO dopé au Ta)

Cible de pulvérisation cathodique de zirconate de lithium et de lanthane dopé au tantale Description

La cible de pulvérisation de zirconate de lithium-lanthanum dopé au tantale est mise au point à l'aide de techniques avancées de traitement des matériaux afin de garantir une pureté et une cohérence exceptionnelles. La formulation du LLZO dopé au Ta offre une conductivité ionique améliorée et une excellente stabilité, ce qui en fait un candidat idéal pour le dépôt précis de couches minces. Sa conception sur mesure offre des performances uniformes dans des conditions de pulvérisation rigoureuses, favorisant une adhérence supérieure du film et un contrôle de la microstructure. Cette cible est particulièrement adaptée à la fabrication de composants de haute qualité pour la microélectronique, les dispositifs de stockage d'énergie et d'autres applications de pointe.

Applications des cibles de pulvérisation au zirconate de lithium-lanthanum dopé au tantale

- Dépôt de couches minces : Idéal pour créer des films uniformes de haute qualité dans la fabrication des semi-conducteurs et de la microélectronique.
- Piles à l'état solide : Utilisé dans la production d'électrolytes solides pour les technologies de batteries à haute performance.
- Revêtements avancés : Utilisé dans les applications de revêtement qui exigent une excellente stabilité chimique et l'intégrité du film.
- Recherche et développement : Matériau précieux pour les études expérimentales en science des matériaux et en nanotechnologie.

Emballage des cibles de pulvérisation cathodique en zirconate de lithium-lanthane dopé au tantale

Nos cibles de pulvérisation sont soigneusement emballées pour garantir l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Chaque commande est emballée sur mesure pour répondre aux spécifications du client, avec des options d'emballage sous vide pour maintenir la pureté et la performance.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qui différencie le LLZO dopé au Ta du LLZO standard ?
R : L'ajout de tantale améliore la conductivité ionique et la stabilité du matériau de base, ce qui le rend particulièrement adapté aux applications exigeantes de dépôt de couches minces et de batteries à l'état solide.

Q : Dans quelles applications cette cible de pulvérisation peut-elle être utilisée ?
R : Elle est idéale pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, la formation d'électrolytes solides dans les batteries, les applications de revêtement avancées et les innovations de matériaux basées sur la recherche.

Q : Des formes personnalisées sont-elles disponibles pour cette cible de pulvérisation ?
R : Oui, le produit est disponible sous forme de disque standard ou peut être fabriqué sur mesure aux dimensions spécifiques requises par votre application.

Q : Quel est l'impact du niveau de pureté de ≥99% sur les performances ?
R : Un niveau de pureté élevé minimise les impuretés qui pourraient interférer avec le processus de pulvérisation, garantissant une qualité de film constante et de meilleures performances dans les appareils électroniques sensibles et les dispositifs de stockage d'énergie.

Q : Quelles sont les procédures de stockage et de manipulation recommandées ?
R : Il est recommandé de stocker la cible de pulvérisation dans un environnement propre et sec et d'utiliser un emballage sous vide ou un emballage de protection similaire pendant le transport pour éviter toute contamination.