ST0522 Cible de pulvérisation de fluorure de plomb (PbF2)

Cible de pulvérisation au fluorure de plomb (PbF2) Description

La cible de pulvérisation de fluorure de plomb (PbF2) est conçue pour offrir des performances exceptionnelles dans les processus de pulvérisation et de dépôt de couches minces. Avec une pureté de ≥99% et des formes personnalisables, elle offre une efficacité constante pour les applications industrielles et de laboratoire. Conçue pour être fiable, cette cible conserve son intégrité dans des conditions de traitement rigoureuses, garantissant des résultats de haute qualité à chaque utilisation.

Applications des cibles de pulvérisation de fluorure de plomb (PbF2)

- Fabrication de semi-conducteurs : Idéale pour les processus de pulvérisation et le dépôt de couches minces dans les dispositifs à semi-conducteurs.
- Dépôt de couches minces : Permet d'obtenir des revêtements uniformes et une qualité de film supérieure dans les applications optiques et électroniques.
- Recherche en laboratoire : Utilisé pour les études en science des matériaux et les installations expérimentales de pulvérisation.
- Traitement de surface : Améliore l'adhérence et la durabilité des revêtements en couches et des applications spécialisées.
- Procédés industriels personnalisés : Adaptable à diverses configurations et installations nécessitant des cibles de pulvérisation de précision.

Emballage des cibles de pulvérisation au fluorure de plomb (PbF2)

La cible de pulvérisation de fluorure de plomb (PbF2) est livrée dans un emballage scellé sous vide afin de garantir une protection optimale et la préservation de la qualité du matériau. Les options d'emballage comprennent 5 kg par sac ou 25 kg par fût, préparés pour répondre aux normes strictes de stockage et de transport.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour la cible de pulvérisation de fluorure de plomb (PbF2) ?
R : Elle doit être stockée dans un environnement sec, à température contrôlée, à l'abri de l'humidité et de la lumière directe du soleil, afin de préserver sa pureté et son intégrité.

Q : La cible peut-elle être adaptée à différents équipements de pulvérisation ?
R : Oui, la cible est disponible dans des formes personnalisées pour répondre aux exigences d'équipements spécifiques.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation de cette cible de pulvérisation ?
R : Elle est idéale pour la fabrication de semi-conducteurs, le dépôt de couches minces, les laboratoires de recherche avancée et divers procédés de pulvérisation industrielle.

Q : Y a-t-il des précautions particulières à prendre lors de la manipulation de ce matériau ?
R : Il convient de suivre les protocoles standard de manipulation en laboratoire et dans l'industrie, y compris l'utilisation d'équipements de protection individuelle pour éviter toute contamination ou tout dommage.

Q : Quel est l'impact de la haute pureté de cette cible sur ses performances ?
R : La pureté élevée (≥99%) garantit des performances de pulvérisation homogènes, ce qui permet d'obtenir des couches minces uniformes et d'améliorer la fiabilité du processus.