Arrêté (Arrêté) ST0516 Cible de pulvérisation d'oxyde de thorium (ThO2)

Cible de pulvérisation d'oxyde de thorium (ThO2) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde de thorium (ThO2) est fabriquée avec une pureté minimale de 99 %, ce qui garantit une qualité exceptionnelle pour les applications industrielles spécialisées. Fabriquée à partir de ThO2, cette cible est disponible sous forme de disque ou de formes personnalisées pour répondre à des besoins spécifiques de pulvérisation. Sa densité élevée et sa composition stable en font un choix idéal pour les processus précis de dépôt de couches minces dans une variété d'applications allant des semi-conducteurs aux dispositifs optiques avancés.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de thorium (ThO2)

- Dépôt de couches minces : Utilisé dans la fabrication de composants électroniques et de revêtements optiques.
- Fabrication de semi-conducteurs : Offre une uniformité et une cohérence élevées pour la fabrication de dispositifs.
- Recherche et développement : Idéal pour les installations expérimentales dans les domaines de la science des matériaux et de l'ingénierie.
- Technologies de revêtement : Appliqué à la production de revêtements de surface durables et performants.

Cibles de pulvérisation d'oxyde de thorium (ThO2)

Notre cible de pulvérisation d'oxyde de thorium est emballée avec le plus grand soin afin de préserver sa grande pureté et son intégrité structurelle. Des solutions d'emballage personnalisées sont utilisées pour assurer une protection optimale pendant le stockage et le transport, garantissant que le produit arrive en parfait état.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation d'oxyde de thorium (ThO2) ?
R : La cible est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques, la R&D et diverses technologies de revêtement.

Q : Comment le niveau de pureté affecte-t-il les performances de la cible de pulvérisation ?
R : Une pureté de ≥99% garantit un minimum de contaminants, ce qui permet d'obtenir des films très uniformes et d'améliorer les performances globales dans les applications de précision.

Q : La cible peut-elle être personnalisée en fonction de dimensions ou de formes spécifiques ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences particulières.

Q : Quelles sont les mesures prises pour préserver la qualité de la cible pendant le transport ?
R : La cible est emballée à l'aide de solutions d'emballage protectrices personnalisées qui la protègent contre la contamination et les dommages pendant le stockage et le transport.

Q : L'oxyde de thorium (ThO2) peut-il être utilisé dans les processus de pulvérisation à haute température ?
R : Oui, en raison de sa densité élevée et de ses propriétés stables, les cibles de pulvérisation de ThO2 sont bien adaptées aux processus de dépôt avancés, même dans des conditions rigoureuses.