ST0514 Cible de pulvérisation d'oxyde de hafnium avec oxyde de calcium (HfO2/CaO)

Cible de pulvérisation d'oxyde de hafnium avec oxyde de calcium (HfO2/CaO) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde de hafnium avec oxyde de calcium (HfO2/CaO) est conçue pour des performances optimales dans les processus de dépôt de couches minces. Fabriquée avec des contrôles de qualité rigoureux et une pureté élevée de ≥99%, cette cible de pulvérisation garantit des résultats cohérents et fiables dans les applications industrielles de pointe. Ses formes personnalisables permettent des solutions sur mesure dans une variété d'environnements de fabrication modernes, ce qui en fait un choix fiable pour la recherche et la production.

Cible de pulvérisation d'oxyde de hafnium et d'oxyde de calcium (HfO2/CaO) Applications

- Fabrication de dispositifs semi-conducteurs : Idéale pour le dépôt précis de couches minces dans les dispositifs microélectroniques.
- Technologies d'affichage : Utilisées dans la fabrication de panneaux d'affichage à haute résolution.
- Photovoltaïque : soutient les processus de revêtement avancés pour la production de cellules solaires.
- Applications de capteurs : Améliore les performances et la durabilité de divers dispositifs de détection.
- Recherche et développement : Fournit des résultats fiables pour les processus expérimentaux et les prototypes dans les laboratoires universitaires et industriels.

Emballage des cibles de pulvérisation de l'oxyde de hafnium avec l'oxyde de calcium (HfO2/CaO)

Des solutions d'emballage personnalisées garantissent que la cible de pulvérisation est protégée en toute sécurité pendant le stockage et le transport. Les options d'emballage sont adaptées aux besoins du client afin de préserver l'intégrité du produit, de la production à l'utilisation finale.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation d'oxyde de hafnium avec oxyde de calcium ?
R : Elle est principalement utilisée dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, le dépôt de couches minces, les technologies d'affichage, les applications photovoltaïques et les capteurs.

Q : Comment la pureté élevée (≥99%) est-elle maintenue dans le processus de production ?
R : Le processus de production fait appel à des mesures rigoureuses de contrôle de la qualité et à des techniques de fabrication avancées pour garantir que la pureté reste égale ou supérieure à 99 %.

Q : Quelles sont les formes disponibles pour cette cible de pulvérisation ?
R : La cible est généralement disponible sous forme de disques, mais des formes sur mesure peuvent être produites pour répondre à des besoins industriels spécifiques.

Q : Les dimensions de la cible de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, les dimensions disponibles sont entièrement personnalisables pour répondre aux exigences uniques des différentes applications.

Q : Quels sont les facteurs à prendre en compte lors de la sélection d'une cible de pulvérisation pour les processus de dépôt avancés ?
R : Les principaux facteurs à prendre en compte sont la pureté du matériau, la stabilité de la composition, la forme de la cible et la compatibilité avec les exigences spécifiques du système de dépôt.