ST0512 Cible de pulvérisation cathodique Zirconium Yttrium (Zr/Y)

Cible de pulvérisation Zirconium Yttrium (Zr/Y) Description

Fabriquée avec une composition de Zr/Y et une pureté de ≥99%, cette cible de pulvérisation est disponible sous forme de disques ou de modèles sur mesure pour répondre aux exigences de processus spécifiques. Utilisant des techniques de liaison avancées avec l'indium et l'élastomère, la cible garantit une adhésion fiable et un dépôt uniforme, ce qui en fait un choix idéal pour les applications industrielles de haute technologie. Les propriétés exceptionnelles du matériau contribuent à la qualité supérieure du film, à la durabilité et à la stabilité du processus.

Applications des cibles de pulvérisation Zirconium Yttrium (Zr/Y)

- Dispositifs semi-conducteurs : Essentiel pour la fabrication de circuits intégrés et de composants microélectroniques.
- Revêtements optiques : Idéal pour déposer des couches réfléchissantes et antireflets de haute qualité dans les dispositifs optiques.
- Ingénierie des surfaces : Améliore les performances des substrats en fournissant des revêtements durables et résistants à la corrosion.
- Recherche et développement : Largement utilisé dans les installations expérimentales pour le développement des technologies de couches minces de la prochaine génération.

Conditionnement des cibles de pulvérisation Zirconium Yttrium (Zr/Y)

Nos cibles de pulvérisation sont emballées avec un soin méticuleux afin de préserver l'intégrité du matériau. Chaque cible est emballée en toute sécurité dans des conteneurs conçus sur mesure, avec des options telles que des mesures antistatiques et le contrôle de l'humidité, afin de garantir une qualité optimale pendant le stockage et le transport.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est un matériau de haute pureté utilisé dans les processus de dépôt physique en phase vapeur où les atomes sont éjectés du matériau cible et déposés sur un substrat pour former des couches minces.

Q : Quels sont les avantages de l'utilisation de la cible de pulvérisation de zirconium et d'yttrium ?
R : Elle offre une grande pureté, des formes personnalisables et des performances fiables, garantissant un dépôt de couches minces uniforme et de haute qualité pour les applications industrielles de pointe.

Q : Comment la qualité de la cible en zirconium et yttrium est-elle maintenue ?
R : Notre processus de fabrication intègre des mesures rigoureuses de contrôle de la qualité afin d'atteindre et de maintenir en permanence un niveau de pureté de ≥99%, ce qui garantit des performances optimales dans les applications exigeantes.

Q : La cible peut-elle être adaptée à des exigences de taille spécifiques ?
R : Oui, la cible de pulvérisation est disponible sous forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des spécifications de processus uniques.

Q : Dans quelles industries cette cible de pulvérisation est-elle généralement utilisée ?
R : Elle est idéalement utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs, la microélectronique, les revêtements optiques et la recherche et le développement pour les applications de couches minces avancées.