ST0509 Cible de pulvérisation Tantale Titane (Ta/Ti)

Description de la cible de pulvérisation Tantale Titane (Ta/Ti)

La cible de pulvérisation Tantale-Titane (Ta/Ti) est conçue pour des performances supérieures dans les processus de dépôt par pulvérisation. Fabriquée avec précision et une pureté de ≥99%, cette cible assure une épaisseur de film uniforme et une excellente adhérence dans diverses applications de revêtement. Tirant parti des techniques de production avancées de Stanford Advanced Materials, elle répond à la rigueur exigée par les industries modernes des semi-conducteurs et de l'électronique. La combinaison du tantale et du titane offre des propriétés uniques qui améliorent l'efficacité de la pulvérisation et la qualité du film dans des environnements opérationnels diversifiés.

Applications des cibles de pulvérisation Tantale-Titane (Ta/Ti)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour la fabrication de revêtements uniformes dans les dispositifs semi-conducteurs et microélectroniques.
- Fabrication d'écrans : Convient à la production de couches précises dans les écrans plats et les écrans OLED.
- Revêtements optiques : Utilisé pour le dépôt de films réfléchissants et antireflets de haute qualité.
- Revêtements industriels : Utilisés pour produire des surfaces résistantes à l'usure et à la corrosion pour divers outils industriels.

Emballage de cibles de pulvérisation de tantale et de titane (Ta/Ti)

Nos cibles de pulvérisation de tantale et de titane (Ta/Ti) sont emballées de manière sécurisée afin de préserver leur intégrité pendant le transport et le stockage.
Emballage sous vide : 5 kg par paquet, 25 kg par fût. Les options d'emballage sont personnalisables pour répondre aux besoins spécifiques des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quels sont les principaux avantages de l'utilisation d'une cible de pulvérisation Ta/Ti ?
R : Les cibles de pulvérisation Ta/Ti offrent une pureté et une uniformité élevées, garantissant un dépôt constant de couches minces et une meilleure adhérence des films dans les applications de semi-conducteurs et de revêtement.

Q : Les tailles disponibles peuvent-elles être adaptées à un équipement spécifique ?
R : Oui, les tailles disponibles sont entièrement personnalisables pour répondre aux dimensions spécifiques requises par les différents systèmes de pulvérisation.

Q : Comment le type de liaison affecte-t-il les performances de la cible de pulvérisation ?
R : L'utilisation d'indium et d'élastomères permet d'améliorer la stabilité thermique et de minimiser les contraintes pendant le processus de pulvérisation, ce qui améliore la longévité et les performances de la cible.

Q : Quelles sont les industries qui peuvent bénéficier de l'utilisation de cibles de pulvérisation Ta/Ti ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la technologie d'affichage, l'optique et les revêtements industriels bénéficient des hautes performances et de la fiabilité offertes par la cible de pulvérisation Ta/Ti.

Q : Comment le niveau de pureté de ≥99% est-il maintenu pendant la fabrication ?
R : Le niveau de pureté est atteint grâce à un contrôle de qualité rigoureux et à des processus de raffinage avancés, garantissant que chaque cible de pulvérisation répond aux normes élevées nécessaires pour les applications de précision.