ST0508 Cible de pulvérisation cathodique silicium-chrome (Si/Cr)

Cible de pulvérisation de silicium-chrome (Si/Cr) Description

La cible de pulvérisation de silicium-chrome (Si/Cr) est conçue pour offrir des performances supérieures dans les processus de dépôt de couches minces. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible est conçue pour offrir un rendement constant et fiable pour les semi-conducteurs, les photovoltaïques et les applications de revêtement optique. Grâce à des technologies de production avancées, la cible offre une excellente uniformité et une stabilité de composition qui est cruciale pour les applications industrielles haut de gamme. Ses options de forme et ses types de collage personnalisables garantissent l'intégration dans une variété de systèmes de dépôt, améliorant ainsi l'efficacité globale du processus et la qualité du revêtement.

Applications des cibles de pulvérisation de silicium-chrome (Si/Cr)

- Fabrication de semi-conducteurs : Idéale pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de dispositifs microélectroniques.
- Cellules photovoltaïques : Utilisées dans la production de panneaux solaires où l'uniformité des revêtements est essentielle.
- Revêtements optiques : Offre des performances élevées pour les applications de revêtement antireflet et de protection.
- Recherche et développement : Parfait pour les études de science des matériaux et le développement de prototypes dans le domaine de la technologie de dépôt.
- Revêtements industriels : Utilisés dans des systèmes de revêtement avancés pour améliorer la résistance à l'usure et la durabilité.

Emballage des cibles de pulvérisation de silicium-chrome (Si/Cr)

Nos cibles de pulvérisation de chrome silicium (Si/Cr) sont emballées de manière sécurisée afin de préserver la pureté et l'intégrité du matériau pendant le transport et le stockage. Les produits sont scellés sous vide et calés dans des conteneurs conçus sur mesure pour éviter toute contamination et tout dommage physique. Les options d'emballage sont disponibles en différentes tailles selon les besoins du client.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les applications qui conviennent le mieux à la cible de pulvérisation cathodique silicium-chrome (Si/Cr) ?
R : Elle convient le mieux à la fabrication de semi-conducteurs, à la production de cellules photovoltaïques, aux revêtements optiques et aux applications de recherche nécessitant le dépôt de couches minces de haute pureté.

Q : Comment la pureté élevée (≥99%) est-elle maintenue pendant le processus de fabrication ?
R : La haute pureté est obtenue grâce à des protocoles rigoureux de contrôle de la qualité et à des techniques de production avancées qui minimisent la contamination à chaque étape de la production.

Q : Cette cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée pour s'adapter à des systèmes de dépôt spécifiques ?
R : Oui, nos cibles de pulvérisation silicium-chrome (Si/Cr) sont disponibles dans des formes et des tailles personnalisées pour répondre aux exigences de conception spécifiques de votre système de dépôt.

Q : Quelles sont les options de collage disponibles pour ces cibles de pulvérisation ?
R : Les cibles sont disponibles avec un collage à l'indium et à l'élastomère, ce qui garantit la compatibilité avec une variété de configurations de pulvérisation et améliore la stabilité thermique et mécanique.

Q : Comment la cible de pulvérisation silicium-chrome (Si/Cr) doit-elle être stockée ?
R : Il est recommandé de stocker les cibles dans un environnement frais et sec et de les conserver dans leur emballage d'origine sous vide afin de préserver leur pureté et leurs performances.